日本k-matsumi半导体DMA纳米粒子测量装置

日本k-matsumi半导体DMA纳米粒子测量装置
气溶胶先经中和器带已知电荷分布 → 进入同轴圆柱形 DMA → 仅特定电迁移直径粒子通过狭缝。
浓度计数
出 DMA 的 mono-mobile 粒子由 CNC（或 CPC）计数 → 扫描电压即可获得 10 – 1000 nm 范围内的粒径分布（dN/dlogDp）。
结果输出
自动生成个数浓度、表面积、体积、质量分布及平均粒径、众数、几

产品型号：DMA-20
厂商性质：经销商
更新时间：2025-12-29
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详细介绍

日本k-matsumi半导体DMA纳米粒子测量装置
日本k-matsumi半导体DMA纳米粒子测量装置

测量原理

电迁移分类
气溶胶先经中和器带已知电荷分布 → 进入同轴圆柱形 DMA → 仅特定电迁移直径粒子通过狭缝。
浓度计数
出 DMA 的 mono-mobile 粒子由 CNC（或 CPC）计数 → 扫描电压即可获得 10 – 1000 nm 范围内的粒径分布（dN/dlogDp）。
结果输出
自动生成个数浓度、表面积、体积、质量分布及平均粒径、众数、几何标准偏差。

3. 关键规格

项目	规格
粒径范围	10 nm – 1000 nm（单级 DMA）
分辨率	64 – 256 通道 / 十倍程可选
浓度上限	10⁷ 粒子/cm³（与稀释器联用可扩至 10⁹）
采样流量	0.3 – 2 L/min 自动恒流
电压扫描	10 – 10 000 V，线性或对数扫描 ≤ 60 s
重现性	计数浓度 ±5 %，粒径 ±2 %
数据接口	USB-C + 模拟 0 – 10 V 输出；附日文/英文软件

4. 系统构成

中和器：Kr-85 或 X-ray 型（低维护）
DMA 主机：不锈钢电极，可拆式狭缝，便于清洗
CNC/CPC：内置光学计数器，可扩展 2.5 nm 下限
稀释器（可选）：旋转盘式，稀释比 1:10 – 1:1000
软件：Windows 11 对应，一键生成 CSV、ASCII、BMP 报告

5. 典型应用

领域	测量对象
半导体	CMP 研磨液、晶圆清洗液中的纳米颗粒；洁净室气溶胶监控
汽车/电池	发动机排气、EV 电池干法电极粉尘
医药/化妆品	喷雾剂、吸入粉体、脂质体粒径
环境	大气纳米颗粒、烟道 PM1.0、超细颗粒物源解析
功能材料	金属纳米胶体、量子点、陶瓷浆料

6. 特色与优势

狭缝可拆：30 s 完成维护，避免交叉污染
低死体积：响应时间 < 3 s，适合在线快速切换
宽浓度兼容：自带双稀释器自动切换，无需手动稀释

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日本k-matsumi半导体DMA纳米粒子测量装置

测量原理

3. 关键规格

4. 系统构成

5. 典型应用

6. 特色与优势

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