SAMCO 紫外臭氧清洗仪器

SAMCO 紫外臭氧清洗仪器，无需真空系统，在大气环境下即可温和高效去除硅、玻璃、化合物半导体等基板表面有机物。搭载加热台面与臭氧分解装置，最大处理 φ100mm 基板，配备上盖联锁与 N₂ purge 等多重安全保障，是半导体晶圆与精密基板前处理的理想选择。

产品型号：UV-1
厂商性质：经销商
更新时间：2026-03-25
访问量：23

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SAMCO 紫外臭氧清洗仪器SAMCO 紫外臭氧清洗仪器

一、产品细节图展示

SAMCO 紫外臭氧清洗仪器整体设计紧凑规整，采用工业级简约造型，机身线条流畅，适配实验室及洁净车间的摆放需求。细节处尽显精密：上盖配备防误触安全联锁装置，卡扣设计牢固，开启时设备自动断电，从源头规避操作风险；正面操作面板布局清晰，数显屏幕可精准显示温度、时间等核心参数，功能按键触感清晰、反应灵敏，便于快速操作；机身侧面设有臭氧分解装置接口与散热孔，既保障设备稳定运行，又防止臭氧泄漏；底部配备防滑脚垫，增强放置稳定性，避免设备运行时产生晃动。

二、产品性能优势

SAMCO 紫外臭氧清洗仪器凭借核心技术优势，实现高效、温和、安全的基板清洁。设备采用紫外光与臭氧协同作用，搭配加热台面辅助，可快速去除基板表面的有机物残留，干式制程设计避免了湿式清洗带来的静电损伤，保护基板不受损坏；无需真空系统，在大气压环境下即可正常运行，大幅降低使用门槛，同时减少设备维护成本；加热台面可实现精准温控，适配不同材质基板的清洗需求，加快清洗速率，提升清洁效率；搭载N₂ purge循环、臭氧洗涤装置及紧急停止按钮，多重安全防护，确保操作过程安全可控，符合工业安全规范。

三、产品用材与工艺

仪器选材严苛，兼顾耐用性与安全性。机身采用高强度耐腐蚀金属材质，表面经过特殊耐磨抗污处理，不易刮花、褪色，可长期适应实验室、洁净车间的使用环境，不易变形；内部清洗腔体选用耐高温、抗臭氧腐蚀的特种工程材料，能够耐受紫外光与臭氧的长期侵蚀，有效延长设备使用寿命；上盖密封件采用高弹性耐老化硅胶材质，密封性优良，可有效防止臭氧泄漏，同时保障安全联锁机构的灵敏运作；核心组件均经过严格检测，装配工艺精密，确保设备运行稳定，减少故障发生率。

四、型号与核心参数

本款仪器核心型号为UV-1，是SAMCO 紫外臭氧清洗仪器的经典主力款型，适配多种中小型清洗场景。其核心参数如下：可处理基板尺寸为φ100mm，可兼容4英寸晶圆及各类小型基板；加热台面温度可根据需求精准调节，满足不同制程的温度要求；设备运行功率适中，能耗较低，适合长期连续使用；臭氧分解装置可将排气中的臭氧浓度降至安全标准，符合环保要求；设备整体体积小巧，占用空间小，便于灵活摆放；运行噪音低，不影响实验室及车间的正常工作环境。

五、产品用途与应用场景

SAMCO 紫外臭氧清洗仪器广泛应用于半导体、光电子、新材料等多个领域，是高精度器件制造过程中的核心前处理设备。其主要用途为去除各类基板表面的有机物残留，具体适配基材包括硅、玻璃、化合物半导体（GaN、GaAs、InP、SiC）、蓝宝石、陶瓷等；可用于晶圆光刻前处理、器件封装前清洁、光学元件表面改性、传感器基板清洁等多种工艺，为高精度器件的生产与研发提供洁净、可靠的表面保障，适用于高校实验室、科研机构、中小型半导体制造企业等场景。

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