TECHNOVISION 半导体晶圆臭氧清洗设备

TECHNOVISION 半导体晶圆臭氧清洗设备TECHNOVISION UV-208/312 采用高密度网格 UV 灯，照射均匀，适合半导体晶圆、光学玻璃、ITO 玻璃等精密表面清洗

产品型号：UV-208
厂商性质：经销商
更新时间：2026-03-26
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联系电话：13823182047

TECHNOVISION 半导体晶圆臭氧清洗设备 TECHNOVISION 半导体晶圆臭氧清洗设备

一、产品细节展示

本款TECHNOVISION UV臭氧清洗机，整机采用紧凑型台式机身设计，兼顾空间利用率与操作便捷性，适配实验室、精密加工车间等多场景摆放。机身外壳做工精致，边角打磨顺滑，整体质感扎实，兼具耐用性与美观度；内部搭载专属高密度网格状低压汞灯，灯体排布规整，光照覆盖，搭配标准化样品台，可平稳放置各类待处理工件。设备操控区域布局简洁，按键灵敏、界面直观，同时内置安全防护锁，舱体开启时可自动切断光源，保障操作安全；机身预留规整的气路接口与电源接口，布线合理、拆装便捷，日常维护、光源检查等操作均可轻松完成，细节处尽显日系精密仪器的匠心设计。

二、产品核心性能

产品依托紫外线与臭氧协同作用，实现高效无损伤表面清洗与改性处理，全程无需化学试剂，绿色环保且无二次污染，处理效果均匀稳定。通过特定波长紫外线照射，快速生成臭氧并分解为活性氧，高效氧化剥离工件表面有机污染物、油脂、残胶等杂质，同时精准改善工件表面润湿性，实现疏水到亲水的状态转变，大幅提升后续贴合、喷涂、镀膜、焊接等工艺的附着力，有效提升产品加工良率。设备光照强度稳定，清洗时间可灵活调控，能适配不同材质、不同规格工件的处理需求，工作状态持续稳定，光源使用寿命长，长期运行能耗低，兼顾高效作业与低成本运维，满足高频次、高精度表面处理需求。

三、精选用材说明

整机外壳选用高强度耐磨材质，抗腐蚀、耐老化，不易出现划痕、变形，可适配多种复杂作业环境，长久保持机身完好性；内部核心光源采用高密度网格低压汞灯，材质透光性优异、光照输出稳定，兼具高照射强度与长使用寿命，常规工况下使用寿命可达8000小时以上，减少频繁更换成本。样品台采用耐高温、耐腐蚀材质，承载性好、不易变形，可平稳适配各类精密工件，避免处理过程中工件移位、划伤；机身内部舱体选用耐高温、抗氧化材质，能抵御紫外线长期照射与臭氧腐蚀，保障设备长期稳定运行，同时杜绝材质本身产生杂质污染工件，保障处理精度。

四、核心技术参数

产品主打UV-208、UV-312两款主流型号，核心参数清晰精准，满足不同工况需求。其中UV-208型号照射区域为206mm×206mm，整机尺寸为385mm（宽）×480mm（深）×270mm（高），机身净重28kg；电源适配交流100V 5A，50/60Hz，也可根据需求定制其他电压规格，适配多国用电标准。设备紫外线波长覆盖185nm与254nm双波段，兼顾臭氧生成与有机污染物分解双重功效，照射均匀度高，无局部光照不均问题；清洗时长可灵活设置，满足不同工件精细化处理需求，整机运行噪音低，无多余震动，不会对精密工件造成损伤。

五、产品型号与适用范围

本系列产品为日本TECHNOVISION原厂出品，主打UV-208、UV-312两款标准型号，两款机型均延续品牌核心技术，仅照射面积、机身规格略有差异，可按需选择。产品广泛适用于半导体晶圆、光掩膜、光学玻璃、ITO玻璃、精密树脂零件、金属精密件等多种材质工件，核心用途涵盖表面有机污染物清洗、工件表面亲疏水性改性、提升工件粘接与镀膜附着力、去除残胶与微量杂质等场景，适配半导体制造、精密光学、电子元器件、新材料研发等行业的高精度表面处理需求，无论是实验室研发还是小规模批量处理，均可稳定适配。

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