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日本 OTARI ADVANTAGE-MEGA30 高周波超声波发生器，专为高精密无损伤清洗设计，支持 1-3MHz 输出，可去除亚微米级颗粒，适配半导体晶圆、HDD 零部件等敏感工件的清洗，是先进制程清洗的理想配套设备。日本OTARI 高周波超声波发生设备
产品型号：ADVANTAGE-MEGA 系列厂商性质：经销商更新时间：2026-04-28访 问 量：15
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日本OTARI 高周波超声波发生设备 日本OTARI 高周波超声波发生设备
高周波无损伤清洗技术
1MHz 以上的高频超声波几乎不产生空化现象，通过温和的声波作用去除亚微米级颗粒，不会因压力冲击造成工件损伤，适配晶圆、光学元件等敏感部件的清洗需求。
数字控制与输出稳定性
采用数字控制振荡器，低输出工况下的稳定性显著提升，确保清洗过程均匀可控，实现稳定的无损伤清洗效果。
适配多种振子类型
可搭配点射淋浴器、石英棒型等多种振子，支持不同清洗工艺需求；振子更换无需额外匹配调整，维护便捷。
流水式设计防颗粒再附着
配套振子采用流水式设计，清洗液持续流动，避免清洗后的颗粒再次附着在工件表面，提升清洗良率。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 型号 | ADVANTAGE-MEGA30 |
| 频率 | 1MHz / 1.5MHz / 3MHz |
| 输出功率 | 15W-30W |
| 振荡方式 | 扫频振荡 |
| 启动方式 | 软启动（2 秒） |
| 报警功能 | 振荡器开路 / 短路、振荡错误报警 |
| 通信接口 | RS422 |
| 外部控制 | DC12V 输入接点、DC24V 报警输出接点 |
| 电源 | 单相 AC100-220V，50/60Hz，300VA |
| 尺寸 | W210 × H125 × D250 mm |
| 重量 | 2.8 kg |
| 工作环境 | 温度 5-40℃，湿度 10-85% RH |
半导体晶圆清洗：去除晶圆表面的亚微米级颗粒，不损伤电路结构，满足先进制程的清洗要求。
HDD 硬盘部件清洗：硬盘磁头、盘片等精密部件的无损伤清洗，避免表面划伤或性能衰减。
光学元件清洗：镜头、滤光片等光学部件的精细清洗，去除微小污染物同时保护光学涂层。
无损伤清洗：兆赫兹级高频超声波，无空化冲击，保护敏感工件表面。
清洗精度高：可去除亚微米级颗粒，满足高精密行业的洁净度要求。
适配性强：支持多种振子类型，适配不同清洗工艺与场景。
维护便捷：振子更换无需匹配调整，降低设备维护成本与停机时间。
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