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日本栗田制作所 等离子体离子注入成膜设备日本栗田制作所 PBII-R450 是小型 DLC 成膜装置，专为研发与试样制备设计，采用等离子体离子注入工艺，可在真空环境下高效沉积类金刚石薄膜，支持多气体控制与脉冲电源配置，适合基础数据采集与工艺研发场景。
产品型号：PBII-R450厂商性质：经销商更新时间：2026-04-30访 问 量：19
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日本栗田制作所 等离子体离子注入成膜设备 日本栗田制作所 等离子体离子注入成膜设备
紧凑高效的研发设计：设备为小型化设计，适合实验室环境部署，真空槽排气后可实现 1.33×10⁻³Pa 以下的真空度，大幅缩短实验准备时间，提升研发效率。
多气体与精密控制能力：配备 7 路质量流量控制器，支持 Ar、H₂、CH₄、N₂等多种工艺气体，搭配自动压力控制阀，可实现真空环境的精准控制，适配多种成膜工艺需求。
双电源配置方案：搭载高压脉冲电源（-20kVp、10Ap，1.5kW）与脉冲 RF 电源（750W/13.56MHz，可升级至 3kW），支持多种等离子体激发模式，满足不同薄膜沉积工艺的能量需求。
的真空与测量系统：配置涡轮分子泵、机械增压泵、旋片泵组成的真空机组，搭配电离真空计、皮拉尼真空计等多种真空测量仪器，保障真空环境的稳定与监测。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 型号 | PBII-R450 |
| 设备类型 | DLC 成膜装置（R&D 小型机） |
| 电源输入 | 三相 AC200V±10% 50/60Hz 约 25kVA |
| 真空槽尺寸 | 410mm×410mm×410mm（约 70L，单面门式） |
| 极限真空 | 1.33×10⁻³Pa 以下（可调整设置） |
| 真空泵组 | 涡轮分子泵 + 机械增压泵 + 旋片泵 |
| 高压脉冲电源 | -20kVp，10Ap，1.5kW，重复频率 500Hz~5000Hz |
| 脉冲 RF 电源 | 750W（13.56MHz），可升级至 1500W/3000W |
| 气体控制 | 7 路质量流量控制器，支持 Ar、H₂、CH₄、N₂等气体 |
| 设备尺寸 | 真空装置：2150×1705×900mm；高压脉冲电源柜：850×1730×940mm |
类金刚石（DLC）薄膜的工艺研发与试样制备
机械零件表面耐磨涂层的实验室沉积
等离子体离子注入相关的基础研究与数据采集
功能性薄膜材料的小批量制备实验
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