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日本 Sanmei 表裹面内部凹凸缺陷检查装置日本 Sanmei 三明 MuraViewerⅡ 表裹面内部凹凸缺陷检查装置,搭载特殊光学系统与 AI 图像处理,可检测半导体晶圆、蓝宝石、玻璃等样品。可识别划痕、异物、研磨痕迹、晶体内部缺陷,支持宽视野纳米级缺陷成像,分台式简易款与全自动卡匣式机型,适配半导体研发与量产质检。
产品型号:MuraViewerⅡ
厂商性质:经销商
更新时间:2026-10-10
访 问 量:22
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日本 Sanmei 表裹面内部凹凸缺陷检查装置 日本 Sanmei 表裹面内部凹凸缺陷检查装置
1. 产品性能
本设备采用特殊光学成像系统 + 复合立体图像处理技术,可将样品细微凹凸状态可视化;搭载数值化处理与 AI 缺陷提取算法,立体凸显缺陷特征。宽视野成像实现纳米级缺陷检测,具备高生产节拍;图像平铺合成单张全景图,缺陷坐标自动存储。支持非透明体表面检测、透明体表面 / 背面 / 内部三维缺陷检测,可同时观测键合晶圆双面与键合层状态,缩短检测周期。支持卡匣到卡匣全自动搬运检测。
2. 型号
MuraViewerⅡ,分两大系列:
1)显示器型(台式简易款):紧凑型低成本机型,适合实验室研发、小批量样品评估;
2)全自动型:搭载工件自动进出机构,卡匣式自动上下料,适配产线量产在线检测,支持定制化配置。
3. 用途
适用样品:半导体、化合物半导体(Si、SiC、GaAs、InP、GaN、Ga₂O₃、LiTaO₃等)、键合晶圆、外延晶圆、蒸镀晶圆、图案化晶圆;玻璃、水晶、蓝宝石等透明基材。
检测项目:划痕、微粒异物、研磨痕迹、涂布不均、晶体内部纹理、晶体缺陷、键合界面缺陷。
应用行业:半导体制造、第三代半导体、光学晶体、蓝宝石衬底、光学玻璃加工,用于工艺评估、良率管控、表面粗糙度验证。
4. 参数表
表格
项目参数
检测对象半导体晶圆、化合物半导体、蓝宝石、光学玻璃等透明 / 镜面样品
缺陷检出能力纳米级细微凹凸缺陷
成像方式宽视野全景成像,图像平铺合成
图像处理复合立体图像处理、AI 缺陷提取、缺陷位置数据存储
机型版本台式显示器型 / 全自动卡匣搬运型
检测面非透明体:单面表面;透明体:表面、背面、内部;键合晶圆:双面 + 键合界面
5. 使用说明
开机,启动设备配套检测软件,设置样品类型、检测参数;
简易台式款:手动放置待测样品至载台;全自动款:将晶圆卡匣放入设备进料口,设备自动取片;
光学系统扫描样品,采集图像,AI 自动识别、提取缺陷;
软件生成全景图像,标记缺陷位置、类型,保存检测数据;
检测完成,台式款手动取出样品;全自动机型自动将样品回传卡匣;
检测结束导出检测报告,完成样品评估。
6. 适用行业
半导体、第三代半导体、光学材料、蓝宝石、光学玻璃、晶体材料研发与生产企业,用于实验室研发评估、产线在线质检。