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日本tecnostrap工业CVD工艺粉体捕集过滤器

日本tecnostrap工业CVD工艺粉体捕集过滤器
Technos 的粉体捕集过滤器专为液晶面板 CVD、半导体 CVD 等工艺中的粉尘处理而设计。

当粉体捕集器开始堵塞时，干式泵至捕集器之间的压力会上升，表现为干泵背压升高。

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  • 厂商性质：经销商
  • 更新时间：2025-11-29
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详细介绍

日本tecnostrap工业CVD工艺粉体捕集过滤器
日本tecnostrap工业CVD工艺粉体捕集过滤器
Technos 的粉体捕集过滤器专为液晶面板 CVD、半导体 CVD 等工艺中的粉尘处理而设计。

当粉体捕集器开始堵塞时，干式泵至捕集器之间的压力会上升，表现为干泵背压升高。
通常以 背压 ≈ 0.03 MPa 作为滤芯更换的参考值。
也可综合以下指标进行判断：
  • 干泵电流值上升
  • 已处理晶圆片数
  • 真空腔体累计运行时间

  • Technos 的粉体捕集过滤器专为液晶面板 CVD、半导体 CVD 等工艺中的粉尘处理而设计。

  • 当粉体捕集器开始堵塞时，干式泵至捕集器之间的压力会上升，表现为干泵背压升高。
    通常以 背压 ≈ 0.03 MPa 作为滤芯更换的参考值。
    也可综合以下指标进行判断：
  • 干泵电流值上升
  • 已处理晶圆片数
  • 真空腔体累计运行时间

  • Technos 的粉体捕集过滤器专为液晶面板 CVD、半导体 CVD 等工艺中的粉尘处理而设计。

  • 当粉体捕集器开始堵塞时，干式泵至捕集器之间的压力会上升，表现为干泵背压升高。
    通常以 背压 ≈ 0.03 MPa 作为滤芯更换的参考值。
    也可综合以下指标进行判断：
  • 干泵电流值上升
  • 已处理晶圆片数
  • 真空腔体累计运行时间


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