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Toray东丽纳米级粉碎分散高纯度氧化锆球

Toray东丽纳米级粉碎分散高纯度氧化锆球
高纯度(Fe/Si/Ti 杂质≤100 ppm)+ 高密度 6.06 g cm⁻³,磨耗低、寿命长、对物料几乎没有污染。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-01-26
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详细介绍

Toray东丽纳米级粉碎分散高纯度氧化锆球

Toray东丽纳米级粉碎分散高纯度氧化锆球

TORAYCERAM™ 珠粒是东丽专为“破碎-分散"工艺设计的陶瓷研磨介质,主要成分是全稳定四方晶氧化锆(ZrO₂-Y₂O₃ 体系),可对应纳米级粉碎与分散。
二、成分与物理性能
项目实测值
ZrO₂94.75 ± 0.6 wt%
Y₂O₃4.90 ± 0.5 wt%
Al₂O₃0.30 ± 0.1 wt%
Fe₂O₃ / SiO₂ / TiO₂各 ≤ 0.01 wt%(高纯低污染)
密度6.06 g cm⁻³
堆积密度3.70 g cm⁻³
维氏硬度1 300 HV
三、规格与强度
粒径 (mm)直径公差 (mm)平均压碎载荷 (kgf)
0.05+0.02 / –0.02
0.10+0.03 / –0.02≥ 1
0.20+0.05 / –0.05≥ 3
0.30+0.10 / –0.05≥ 6
0.40–0.50+0.10 / –0.10≥ 10–20
0.65–1.00+0.15 / –0.10≥ 30–80
1.25–2.00+0.20 / –0.20≥ 120–240
2.35–3.00+0.25 / –0.30≥ 270–500
5.00+0.50 / –0.50≥ 600
四、主要用途
  • 电子陶瓷:MLCC、LTCC、压电陶瓷等纳米粉体湿法研磨
  • 电池材料:锂电正负极、固态电解质分散
  • 油墨/涂料:高固含、低粘度体系的超细分散
  • 化妆品、医药、食品:对金属与杂质污染要求 ppm 级场合
  • 半导体抛光:CMP 浆料二次分散
五、产品亮点
  1. 0.05 mm 级“亚毫米珠"也能保证公差 ±0.02 mm,可直接用于 50 nm 以下研磨。
  2. 高纯度(Fe/Si/Ti 杂质≤100 ppm)+ 高密度 6.06 g cm⁻³,磨耗低、寿命长、对物料几乎没有污染。
  3. 全尺寸链 0.05–5 mm 批量供货,方便工艺放大。
  4. 与东丽自产氧化锆粉体一体化生产,批次稳定性高。



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