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日本fujimfg高纯度绿碳化硅磨料 精密件抛光

日本fujimfg高纯度绿碳化硅磨料 精密件抛光.
SiC含量≥98%(C系列为≥97%),杂质更少
游离碳更低:≤0.40%,减少对工件的碳污染
粒度更精细:细度可达#3000(4.0μm),比C系列多出一级超细粉
切削力更强:绿色碳化硅晶体结构更完整,硬度略高于黑色碳化硅

  • 产品型号:fuji rundum gc
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-02-03
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详细介绍

日本fujimfg高纯度绿碳化硅磨料 精密件抛光

日本fujimfg高纯度绿碳化硅磨料 精密件抛光

フジランダムGC(Fuji Random GC)—— 一种以绿碳化硅(Green Silicon Carbide)为主要成分的研磨材料
(GC = Green Carborundum / 绿色碳化硅)

化学成分(Chemical Composition)

成分规格值(重量%)
SiC(碳化硅)≥98.0%
Fe₂O₃(三氧化二铁/氧化铁)-(无要求/未规定)
FC(固定碳/游离碳)≤0.40%
※注:粒度 #240~#3000 的 SiC 规格值为 ≥96.0%

一般研磨材粒度与中心粒径(Coarse Abrasives)

粒度中心粒径范围
#161400~1000 μm
#201180~850 μm
#24850~600 μm
#30710~500 μm
#36600~425 μm
#46425~300 μm
#60300~212 μm
#80212~150 μm
#100150~106 μm
#120125~90 μm
#150106~63 μm
#18090~53 μm
#22075~45 μm

微粉研磨材粒度规格(Fine/Micron Abrasives)

粒度粒子径平均粒径(中心值±公差)
#240≤127.0 μm57.0 ± 3.0 μm
#280≤112.0 μm48.0 ± 3.0 μm
#320≤98.0 μm40.0 ± 2.5 μm
#400≤75.0 μm30.0 ± 2.0 μm
#500≤63.0 μm25.0 ± 2.0 μm
#600≤53.0 μm20.0 ± 1.5 μm
#800≤38.0 μm14.0 ± 1.0 μm
#1000≤32.0 μm11.5 ± 1.0 μm
#1200≤27.0 μm9.5 ± 0.8 μm
#1500≤23.0 μm8.0 ± 0.6 μm
#2000≤19.0 μm6.7 ± 0.6 μm
#3000≤13.0 μm4.0 ± 0.5 μm

主要应用领域

基于GC系列的超高纯度、高硬度和更精细的粒度分级(可达#3000),主要用于:

1. 超硬材料加工

  • 硬质合金刀具、模具的研磨
  • 宝石、玉石、光学晶体的切割与抛光
  • 金刚石工具的辅助研磨

2. 半导体与电子行业

  • 硅晶圆、GaAs晶圆的精密研磨
  • 陶瓷基板、LTCC/HTCC基板的加工
  • 石英玻璃、光学玻璃的高精度表面处理

3. 航空航天

  • 陶瓷复合材料(CMC)的精密加工
  • 航空发动机叶片的表面处理
  • 高温结构陶瓷的研磨

4. 特殊材料处理

  • 碳化硅陶瓷、氮化硅陶瓷的加工
  • 石墨、碳纤维复合材料的精磨
  • 轴承钢、高速钢等超硬合金的镜面抛光

关键优势总结

  1. 纯度更高:SiC含量≥98%(C系列为≥97%),杂质更少
  2. 游离碳更低:≤0.40%,减少对工件的碳污染
  3. 粒度更精细:细度可达#3000(4.0μm),比C系列多出一级超细粉
  4. 切削力更强:绿色碳化硅晶体结构更完整,硬度略高于黑色碳化硅
  5. 自锐性优异:脆性破碎特性使其在研磨过程中不断产生新的锋利切削刃


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