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Nanometric Technology SC300 手动旋转涂布机，专为半导体光刻研发设计，兼容 φ5 英寸晶圆，支持两档速度控制与异形样品定制探头。全不锈钢外壳耐药品易清洁，搭配全周平均排气管道，结构紧凑低成本，是实验室高精度光刻胶涂覆的理想设备。日本纳米计量技术 手动旋转涂布机设备
产品型号：SC300厂商性质：经销商更新时间：2026-03-28访 问 量：11
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日本纳米计量技术 手动旋转涂布机设备 日本纳米计量技术 手动旋转涂布机设备
广泛样品适配：兼容 φ5 英寸晶圆，同时支持定制化探头，可灵活应对异形样品，满足多样化涂覆需求。
两档速度控制：配备 SPEED1/SPEED2 两档转速调节，搭配 TIME1/TIME2 两段时间设定，可精准控制光刻胶成膜工艺。
紧凑低成本设计：整机采用紧凑型布局，兼顾高精度与经济性，适合科研实验室小批量样品制备。
耐药品性与易清洁：全不锈钢外壳，耐化学品腐蚀，便于清洁维护，适配光刻胶等有机溶剂环境。
高效排气设计：配备全周平均排气管道，可均匀排出有机溶剂挥发气体，保障实验环境安全。
便捷操作面板：集成转速计、时间设定、真空吸附控制、启动 / 停止等功能模块，操作直观清晰。
φ5 英寸及以下晶圆的光刻胶均匀涂覆
异形样品的定制化薄膜制备
半导体器件光刻工艺的基础研究与小批量试制
新型光刻材料的成膜工艺探索
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