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产品分类
日本纳米计量技术 半导体光刻曝光设备纳米计量技术掩模对准机，是半导体光刻核心设备，可利用紫外线将微细图案转印烧结到硅、玻璃等基板上。支持接触 / 接近等曝光方式，配备精密对准机构与观测光学系统，广泛用于晶体管、IC、LCD 等器件制造，支持定制化需求。
产品型号：EV-B1 系列厂商性质：经销商更新时间：2026-03-28访 问 量：11
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日本纳米计量技术 半导体光刻曝光设备 日本纳米计量技术 半导体光刻曝光设备
多基板适配：兼容硅、玻璃、陶瓷、砷化镓、水晶等多种基板，支持晶体管、IC、LCD 玻璃等多样样品。
丰富曝光模式：支持接触曝光、接近曝光、等倍投影曝光等多种方式，适配不同工艺需求。
精密对准系统：搭载高精度对准机构与观测光学系统，保障图案转印精度，满足半导体器件制造要求。
定制化设计：以核心功能为基础，可根据客户需求定制曝光模式、基板尺寸或自动化模块。
稳定可靠结构：整机采用工业级机架，配备 UV 光源与操作面板，结构稳固耐用，操作便捷高效。
晶体管、IC、二极管等半导体元件的光刻工艺制备
LCD 玻璃、水晶振荡器的图案形成
传感器、MEMS 器件的微纳结构制造
新型光刻材料与工艺的基础研究
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