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日本ARIOS 小型微波激发离子源设备

日本ARIOS 小型微波激发离子源设备日本 ARIOS EMIS-111Q 是石英放电管型小型微波激发离子源,采用紧凑型设计,可产生大电流离子束,支持全空冷运行,可搭配 2kV 离子加速电源,适用于离子束处理、薄膜制备等实验室工艺场景。

  • 产品型号:EMIS-111Q
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-05-06
  • 访  问  量:20
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详细介绍

日本ARIOS  小型微波激发离子源设备 日本ARIOS  小型微波激发离子源设备

产品概述
EMIS-111Q 是石英放电管型小型微波激发离子源,相比同系列其他型号更为紧凑,采用专注于离子源的设计,能够获得更大的离子电流。设备可搭配 2kV 离子加速电源使用,适用于实验室离子束处理、薄膜制备等多种工艺场景。
核心特点
  • 紧凑高效的离子源设计:等离子体室由石英制成,可目视观察放电情况,三电极结构设计可利用低功率微波获得大电流离子束。

  • 低杂质污染设计:等离子体室中与等离子体接触的部分全部由绝缘材料(氧化铝 + 石英)构成,可将杂质混入降至。

  • 安全屏蔽与冷却设计:采用全屏蔽结构,可防止微波泄漏,安全性高;全空冷式设计,无需冷却水,降低配套设备成本。

  • 适配多种气体与工艺:可使用各种活性气体,搭配可选中和器,也可用于绝缘体处理场景。

  • 便捷的安装与连接:微波通过同轴电缆传输,无需复杂的波导管连接,设备安装与调试更简便。

核心参数
表格
项目参数
型号EMIS-111Q
放电室材质石英
微波输入功率最大 150W
放电室内径直径 26mm
栅格孔径φ2.8mm×19
烘烤温度最大 150℃(仅法兰部分)
真空密封方式O 型圈密封(放电管部)
气体入口规格1/4 英寸录像机接口™或 1/4 英寸 Swagelok 接口™
连接法兰φ114CF
配套离子加速电源型号3ACCPS2-30
加速电源输出加速电极 - 500V 8mA、屏极 2kV 30mA(比率可变更)
离子束电流密度(参考)520μA/cm²(Ar 气、微波功率 100W 条件下)
应用场景
  • 实验室离子束处理工艺,如表面改性、刻蚀、清洗等

  • 薄膜制备工艺中的离子束辅助沉积,提升薄膜附着力与性能

  • 绝缘体材料处理场景,搭配可选中和器可满足绝缘基底工艺需求

  • 科研院所、高校实验室的离子源研发与工艺验证

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