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日本AVC 小型超高真空MBE系统设备

日本AVC 小型超高真空MBE系统设备日本 AVC 小型超高真空 MBE 系统,专为半导体及太阳能电池薄膜制备研发,可实现 3 英寸以内基板的洁净外延生长,10⁻⁹Pa 级真空环境,配备 8 端口蒸发源与实时分析模块,无需破真空即可完成基板传输。

  • 产品型号:标准型
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-05-09
  • 访  问  量:11
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详细介绍

日本AVC 小型超高真空MBE系统设备 日本AVC 小型超高真空MBE系统设备

产品概述
该设备是一款专为半导体薄膜、太阳能电池薄膜制备设计的超高真空分子束外延(MBE)系统,依托 AVC 的超高真空技术,可在洁净环境下实现高质量薄膜生长,是材料科学与半导体器件研发的核心设备。
核心特点
  • 超高真空洁净环境:成膜室真空度可达 10⁻⁹Pa 级,采用 IP/TSP 排气系统,可选配 LN₂冷却屏蔽罩,有效降低背景杂质污染,保障薄膜生长质量。

  • 多源集成与基板适配:配备 8 端口蒸发源,支持 K-cell、EB、等离子体气体源等多种可选配置;兼容 3 英寸以内基板,自带旋转机构,基板加热 / 冷却功能可按需选配。

  • 高效基板传输设计:搭载超高真空传输机构与载荷锁室,无需破坏主真空环境即可完成基板装卸,大幅提升实验效率与设备利用率。

  • 实时监测与分析能力:可选配 RHEED 装置、高精度温度监测器 BandiT 及薄膜应变 / 应力监测器 MOS,实现薄膜生长过程的原位监控与质量评估。

核心配置与技术参数
表格
项目参数 / 说明
成膜室真空度10⁻⁹Pa 级,IP/TSP 排气系统(可选 LN₂屏蔽罩)
蒸发源端口8 端口,支持 K-cell、EB、等离子体气体源等多种可选配置
基板适配~3 英寸,带旋转机构;加热 / 冷却功能可选配
基板传输超高真空传输机构,缓冲室配备 300l/s 磁悬浮 TMP 排气系统
可选分析模块RHEED 装置 + kSA400 解析系统、BandiT 温度监测器、MOS 应力监测器
应用场景
  • 半导体薄膜研发:化合物半导体、二维材料外延生长,用于器件性能优化与新型材料开发。

  • 太阳能电池制备:薄膜太阳能电池吸收层、缓冲层生长,提升电池光电转换效率与稳定性。

  • 表面科学研究:薄膜生长动力学、界面反应机理研究,为基础材料科学提供关键实验平台。

  • 教学与实验室应用:高校及科研院所薄膜制备实验教学,支持定制化实验方案开发。

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