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日本 Takano 高野 半导体晶圆膜厚检测仪

日本 Takano 高野 半导体晶圆膜厚检测仪日本 Takano 高野 Thinspector 晶圆膜厚检测设备,支持最大 300mm 整片晶圆全域扫描,60 万测点全覆盖测量 300~15000nm 薄膜厚度;自研算法精准识别膜姆拉厚薄不均缺陷,生成全域膜厚分布云图,适用于化合物、再生硅片量产制程与出厂全检,实现晶圆膜层品质完整管控。

  • 产品型号:Thinspector
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-06-29
  • 访  问  量:8
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详细介绍

日本 Takano 高野 半导体晶圆膜厚检测仪 日本 Takano 高野 半导体晶圆膜厚检测仪

1. 产品概述

Thinspector 是 Takano 面向半导体晶圆制程推出的整片晶圆全域薄膜厚度检测设备,区别传统单点膜厚抽检,可一次性完成整片晶圆全覆盖扫描,精准检出膜厚不均(膜ムラ / 姆拉)缺陷;适配最大 300mm(12 英寸)硅片、化合物晶圆、再生晶圆,300~15000nm 宽量程纳米级膜厚测量,搭载自研膜厚差识别算法,百万级测点绘制全域膜厚云图,用于镀膜工艺管控、出厂品质全检。

2. 整机硬件规格参数

表格

参数项目规格指标

适配晶圆尺寸最大 300mm(12 英寸)

单次扫描分析视野350×350μm

核心检测项目薄膜膜厚不均(膜姆拉)

膜厚测量量程300~15000 纳米

测点密度60 万点 / 12 英寸整片晶圆

整机外形尺寸 (宽 × 深 × 高)W1470 × D2490 × H1770 mm

3. 三大核心产品特点

01 整片晶圆全域膜厚趋势管理

摒弃传统单点抽样测量,一次性全覆盖扫描,生成完整晶圆膜厚分布热力云图,直观呈现膜厚渐变、局部厚薄异常,实现全片工艺趋势管控,杜绝局部不良漏检。

02 自研高精度膜厚识别算法

专属图像分析算法,精准捕捉微米级微小膜厚差值,区分正常工艺波动与不良姆拉缺陷,自动标记异常区域坐标、面积、厚度偏差值。

03 高速整片扫描检测

单次扫描完成 12 英寸晶圆全部测点采集,大幅缩短单片检测节拍,适配产线批量出货检验、再生晶圆复检、镀膜设备工艺验证等高通量场景。

4. 适用检测场景与下游客户

应用场景

镀膜设备工艺验证、工程制程管控、原材料基材来料检验、晶圆成品出厂全检、化合物晶圆检测、再生晶圆复检

目标客户

半导体设备厂商、化合物晶圆制造企业、再生晶圆加工厂商、半导体材料供应商、芯片研发实验室、晶圆代工工厂



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