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日本进口Nasgiken批量晶圆整体表面蚀刻设备 BEM-310 该设备使用臭氧和HF对硅晶片的整个表面进行体蚀刻。 气体蚀刻不会在晶圆表面产生水滴。 蚀刻期间晶圆中的污染物不会转移到其他位置。 这是在洁净室中使用的独立式设备。
2024-10-12
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日本nasgiken硅晶片气体蚀刻设备洁净室装置 BEM-310 该设备使用臭氧和HF对硅晶片的整个表面进行体蚀刻。 气体蚀刻不会在晶圆表面产生水滴。 蚀刻期间晶圆中的污染物不会转移到其他位置。 这是在洁净室中使用的独立式设备。
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