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日本nasgiken硅片晶圆表面金属污染回收装置简易型用于 硅片及化合物半导体晶圆 表面/侧面 纳米级金属污染物 的 半自动微量回收
产品型号：SC-9200厂商性质：经销商更新时间：2025-12-31访 问 量：85
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日本nasgiken硅片晶圆表面金属污染回收装置
日本nasgiken硅片晶圆表面金属污染回收装置
SC-9200 简易型微量金属污染物回收装置
| 功能 | 说明 |
|---|---|
| 自动保持具清洗 | 回收液槽与吸头每次循环自动冲洗，消除交叉污染 |
| 上吸式液回收 | 通过负压将取样液 精确吸回，残留量 < 1 µL |
| 多种取样图形 | 标配：环状、扇形、固定半径、弧段；可选：侧面（倒角）、矩形、弓形 |
| 全自动流程 | ①装夹 → ②供液 → ③取样 → ④回收 → ⑤清洗，一键完成 |
| 高洁净设计 | 整机可置于 洁净台（Clean Draft） 内使用；与晶圆接触部分 PFA/PTFE 材质 |
| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 适用晶圆 | 2–8 inch（可兼容缺口/平边） |
| 取样面积 | 最小 Φ 1 mm 环带， 全表面 |
| 回收液体积 | 50–500 µL（可调，闭环体积校准） |
| 取样时间 | 典型 30 s/片（含清洗） |
| 电源 | AC 100–240 V 50/60 Hz 200 W |
| 公用介质 | 纯水（DIW）、氮气（N₂）、洁净空气（CDA） |
| 外形/重量 | 690 × 550 × 790 mm / 55 kg |
| 控制方式 | 外接 PC（Windows），图形界面；可导出 CSV/Excel |
SC-3100通过连接 PC 创建多种取样模式，可从硅片表面及侧面（倒角部）回收微量金属污染。几乎不需要外部资源，也不占空间，设备导入门槛低。机械作业，无需操作者熟练，任何人都能轻松采样。采样药液供给与保持具移动由装置自动完成，与 SC-2000 相比，可进一步减少人员污染。SC-8150具备从亲水状态晶圆回收污染的功能，除硅片外，也可对表面粗糙的体蚀刻晶圆等材质进行采样。对晶圆状态和药液种类的限制放宽，除重金属外，还可回收其他离子。当然，传统的疏水采样同样支持。SC-9100具备从亲水状态晶圆回收污染的功能，除硅片外，也可对表面粗糙的体蚀刻晶圆等材质进行采样。对晶圆状态和药液种类的限制放宽，除重金属外，还可回收其他离子。当然，传统的疏水采样同样支持。采样药液供给与保持具移动由装置自动完成，与 SC-8150 相比，可进一步减少人员污染。
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