日本 NANOTEC 小型 DLC 成膜实验装置

日本 NANOTEC 小型 DLC 成膜实验装置 日本 NANOTEC 小型 DLC 成膜实验装置

1. 产品性能

ICF-330 是日本 NANOTEC 基于自研 DLC 成膜技术打造的新一代科研实验镀膜设备。整机结构紧凑，兼顾实验室占地需求，硬件扩展性强。标配 PSII 离子注入电源，可加装高频溅射源、DLC 离子沉积源、剥离电源，支持多种工艺复合沉积。基板采用自公转结构，膜层均匀性优秀；搭载触摸屏食谱系统，整套工艺全自动运行，真空系统稳定，可复现大型量产设备的成膜工艺，降低研发到量产的工艺转换风险。

2. 产品型号

ICF-330（330 系列小型 DLC 成膜实验装置）

3. 规格参数表

表格

项目参数

真空槽尺寸330W×330D×410H（mm）

有效加工面积φ150×150mm（搭载溅射功能时 φ110mm）

基板支架自公转式，支持按工件形状定制

标准搭载系统PSII 电源；可选：DLC 离子源、溅射电源、DLC 剥离电源

极限真空6.7E-4Pa 以下

抽气性能30 分钟内抽到 6.7E-3Pa

基板偏置最大 5kV，250mA，0.2~2kHz，占空比 5~50%

基板加热选配座椅加热器

真空机组涡轮分子泵 + 旋片泵

供电需求三相 200V，10kVA

设备占地2.5m(W)×2.5m(D)×2.0m(H)

冷却水条件2kgf/cm²，20L/min

压缩空气≥5kgf/cm²

4. 产品用途

高校、科研院所：DLC 类金刚石薄膜、ICF 本征碳膜基础机理研究、涂层工艺探索；

企业研发中心：精密零部件耐磨涂层、生物医用涂层、低摩擦功能碳膜样品试制；

新材料开发：导电 / 绝缘碳膜、耐蚀涂层、光学类金刚石薄膜工艺验证；

工艺预研：提前验证量产机型工艺方案，缩短产线设备调试周期。

5. 使用说明

设备就位：预留规定安装空间，接入三相电源、冷却水、压缩空气，完成管路检漏；

样品装夹：将基材固定在自公转基板支架，按需调整公转转速；

工艺编程：在触控界面新建 / 调用镀膜食谱，设置偏置功率、气体流量、沉积时长；

真空流程：启动机组抽真空，到达目标真空度后启动等离子体、离子注入、溅射等模块；

成膜与停机：自动完成沉积流程，程序结束后按规范放气，冷却后取出样品；

日常维护：定期检查真空泵油、密封胶圈、水路过滤器，定期清洁真空腔体。

6. 适用行业

精密机械、医疗器械、半导体零部件、模具涂层、摩擦学研究、新材料实验室、光学元件研发。