日本 iMeasure SWIR 短波红外图像扫描仪器

日本 iMeasure SWIR 短波红外图像扫描仪器 日本 iMeasure SWIR 短波红外图像扫描仪器

1、产品性能

本设备为平板扫描式 SWIR 短波红外成像扫描仪，区别于普通面阵相机，照射与受光角度恒定，针对高光泽样品也可采集无反光干扰图像。内置基准板自动校正系统，精准完成样品反射率、透射率二维分布解析。

覆盖短波红外波段（1050~1550nm），支持单通道、双通道、HDR、可见光 + SWIR 多模式成像，动态范围优秀，图像空间均匀性高，可大面积一次性扫描成像，稳定性与数据重现性优异。可选透射测量模式，适配更多样品检测需求。

2、型号说明

Model1：SWIR 专用机型

SWIR 光源（1050/1300/1550nm），12bit 输入 / 16bit 输出，211ppi，总像素 900 万

Model2：SWIR 专用机型（HDR）

SWIR 光源，14bit 输入 / 16bit 输出，168ppi，总像素 570 万，高动态范围成像

Model3：2ch-SWIR 双通道机型

双波长 SWIR（1300nm、1550nm），84ppi，双通道各 140 万像素

Model4：全彩 / SWIR 多模式机型

可见光 + SWIR 复合光源，可见光 280ppi、SWIR 84ppi，总像素 1600 万

通用规格：扫描有效尺寸 310mm×420mm；全系可选透射测量模式。

3、参数表

表格

项目参数信息

扫描方式平板图像扫描式

有效扫描区域310mm × 420mm

支持波长SWIR：1050nm / 1300nm / 1550nm（依机型）

校正功能内置基准板校正，二维反射 / 透射率解析

成像优势固定光路角度，高光样品无杂光反光

可选配件透射测量模块

输出精度12bit/14bit 输入，16bit 图像输出

4、主要用途

半导体行业：硅片、晶圆材料均匀性评估、材料缺陷检测

材料分析：样品内部水分二维分布可视化观测

食品工业：大范围异物筛查、原料品质无损检测

科研实验室：高分子、薄膜、复合材料短波红外成像研究

5、使用说明

将样品平整放置于扫描载台，闭合上盖；

软件内选择对应波长通道、成像模式（反射 / 透射）；

启动基准校正流程，消除光路误差；

执行扫描，设备自动完成大面积图像采集；

导出图像数据，进行二维分布、均匀性分析；

长期使用定期清洁载台玻璃，定期运行基准校准保证测量精度。

6、优势总结

扫描式成像具备优异一致性，大面积样品一次成像，避免相机拼接误差；内置校正系统，定量分析能力强；多机型灵活选配，兼顾科研、半导体工业、食品检测等场景。