日本Filgen紫外臭氧有机溶剂超声波清洗仪 UV253V8/UV253V8R ●单独使用超声波清洗无法去除的基材上的有机污染物可以轻松去除。 ●湿法清洗中使用的有机溶剂也被去除。 ●可以在不损坏基材表面的情况下去除有机污染物。 ●LB膜的堆积变得容易。（累计率将大幅提升。） ●一种可在常压下使用且不需要真空装置的干洗设备。

日本进口filgen等离子镀膜机EVO涂层多功能 OPC60A 这是一种以SEM样品为主的导电性薄膜的制造装置，采用“利用直流辉光放电的负辉光相区域的等离子膜制造方法”。

日本Filgen等离子镀膜机用于导电性薄膜装置 OPC60A/OPC80T 电子显微镜试样用导电性薄膜制作装置等离子体涂布机 ◆膜专用型（OPC60A） ◆膜/等离子体聚合膜双用型（OPC80T） ◆导电性超薄膜制膜机构 ◆亲水化处理机构 ◆深型试样机构 ◆可选消耗品

日本DIC酸、碱、有机溶剂等液体脱气装置 PF-F系列 脱气膜采用PTFE，接触液体部全部为氟树脂制的脱气模组。可进行酸、碱、有机溶剂等液体的脱气。 可用于在半导体、LCD制造过程中使用液体的脱气、除泡（各种抗蚀剂、稀释剂、化学制剂等） 溶剂型喷墨墨水的脱气

日本DIC用于半导体/化学制剂等脱气装置 PF-F系列 脱气膜采用PTFE，接触液体部全部为氟树脂制的脱气模组。可进行酸、碱、有机溶剂等液体的脱气。 可用于在半导体、LCD制造过程中使用液体的脱气、除泡（各种抗蚀剂、稀释剂、化学制剂等） 溶剂型喷墨墨水的脱气

Xevios多用途清洗装置高压脉冲喷射清除异物 兼容晶圆、石英、玻璃、蓝宝石、SiC等多种材质。 结合高压间歇喷射、二流体喷射、各种刷子、超声波、化学溶液等，可应对从粗加工到各种清洗工艺。抛光后清洗至精密清洗。

Engis台式和固定式研磨设备超精密研磨加工 EJ-380IN-CH / EJW-400IF 台式和固定式研磨设备设计为的设备尺寸，用于构建从实验室规模到生产规模的高度灵活的抛光工艺。采用特别适合金刚石研磨的高刚性机身和开发的水冷主轴，使研磨机的表面温度始终保持恒定，实现高旋转精度、振动小。

MTI双轴高能旋转振动球磨机研磨成纳米级 MSK-SFM-3-II MSK-SFM-3-II 是一款双轴高能球磨机，具有 3D 运动，可同时将两种粉末研磨成纳米级。 它具有由三维运动产生的更高冲击力，例如旋转、振动和振荡，频率高达 1000 RPM。 24VDC 电机内置独立可编程控制单元，可 在氩气手套箱内操作。