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  • 50 PLUS(50+)EXAKT 实验室 高粘度物料分散三辊研磨机

    EXAKT 实验室 高粘度物料分散三辊研磨机EXAKT 50 PLUS 三辊研磨机,搭载强劲驱动系统,适配多种应用。可对高粘度物料实现精准可重复分散,触控面板调速,单手精准调节辊隙。辊面可选镀铬 / 氧化铝材质,配备自适应刮刀,具备防干转保护,辊隙 10μm 时最高通量 5L/h,是实验室浆料研磨分散优选设备。

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    2026-09-18

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    10

  • MT‑10M日本 MWL 村田溶研 手动钨电极研磨机

    日本 MWL 村田溶研 手动钨电极研磨机日本 MWL 村田溶研 MT‑10M 手动钨电极研磨机,适配 φ1.0‑φ3.2mm 钨电极,研磨角度 20‑60° 可调,支持轴向、横向、斜向多种研磨方向。搭载 CBN 硼化硅磨轮,带安全防护罩,机身小巧轻便。适用于 TIG 焊接钨极修磨,不适合大批量连续研磨,可选配支架研磨短电极,满足车间精密焊接预处理需求。

    更新时间

    2026-09-08

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    82

  • RM‑05日本 SEIWA GIKEN 实验室粉体分散研磨机

    日本 SEIWA GIKEN 实验室粉体分散研磨机日本 SEIWA GIKEN RM‑05 摇滚磨为实验室粉体混合设备,采用左右摇摆 + 上下往复复合运动,可直接使用市面 PP 瓶、玻璃瓶作为处理容器。支持变频调速、数字定时,配置安全互锁防护罩,转速 700rpm,装载总重 3kg 以内,适用于粉体混合、分散、浆料制备、机械化学处理等实验场景。

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    2026-09-03

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    64

  • E^o^2日本 IMT 桌上型双盘金相样品研磨机

    日本 IMT 桌上型双盘金相样品研磨机配两路给水龙头与背部排水软管。转速 0~400rpm 可调,适配多种规格研磨圆盘,广泛用于金相试样研磨制备。

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    2026-08-11

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    95

  • KIRIME250日本 IMT 桌上双模式自动试样研磨机

    日本 IMT 桌上双模式自动试样研磨机日本 IMT KIRIME250 桌上样品研磨机,支持整体载荷、单独载荷两种研磨模式,最多可同时放置 6 个样品。搭载研磨盘水冷系统,可外接研磨剂自动滴注装置,支持多组工艺配方存储调用,运行稳定。适用于半导体、新材料、金属金相实验室样品精密研磨制备。

    更新时间

    2026-08-11

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    77

  • KIRIME 300日本 IMT 半导体桌上型自动样品研磨机

    日本 IMT 半导体桌上型自动样品研磨机IMT KIRIME 300 桌上样品研磨机,支持整体荷重、单独荷重双模式研磨,研磨盘自带冷却功能。配备伺服电机,转速、压力精准可调,可存储多组工艺配方,支持连接研磨剂自动滴加装置。适配 SiC、半导体材料试样制备,广泛用于半导体、新材料实验室样品前处理。

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    2026-08-11

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  • Q-roy NS日本 IMT 半导体桌上样品自动研磨机

    日本 IMT 半导体桌上样品自动研磨机IMT Q-roy NS 桌上样品研磨机,搭载独立 Z 轴研磨量管控,可对 3 个样品单独设定研磨深度,最小 1μm 精度设置。支持研磨量自动停止、定时双模式研磨,配备触控操作系统。紧凑型台式结构,适用于金相、半导体材料试样精密研磨制备。

    更新时间

    2026-08-11

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  • Rana-3日本 IMT 桌上型自动金相样品研磨机

    日本 IMT 桌上型自动金相样品研磨机IMT Rana-3 桌上型自动样品研磨机,独立加压设计,可搭载 1~6 个样品。磨盘与样品支架均可正反转,规避研磨面倾斜缺陷。支持多阶段研磨程序,可存储 16 组工艺参数,适配 SiC、半导体晶片等样品研磨,广泛用于半导体、材料实验室试样前处理。

    更新时间

    2026-08-11

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