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日本shinkuu实验室多金属全自动溅射镀膜仪 装置概述 类型：多功能简易操作型磁控溅射装置，适用于多种金属的薄膜制备。 特点： 小型桌面型设计，占用空间小。 低电压涂层，样品采用浮动式设计，可减少样品损伤。 配备触摸屏操作面板，支持配方功能，可实现全自动溅射成膜。
2025-10-22
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日本shinkuu贵金属薄膜镀膜研究磁控溅射仪 专为扫描电子显微镜（SEM）观察用贵金属薄膜涂层设计，用于防止SEM样品的充电效应，提高二次电子的产生效率。 低电压放电：采用磁控靶电极进行低电压放电，结合浮动式样品台，减少电子束对样品的损伤。 操作简便：只需按下按钮即可自动进行涂层处理，操作简单，任何人都可以轻松操作。
2025-10-22
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日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层 G20 该台式溅射设备非常适合在样品表面涂覆抗静电涂层，例如对非导电样品进行 SEM 观察时。
2025-05-07
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