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日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层

日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层 G20

该台式溅射设备非常适合在样品表面涂覆抗静电涂层,例如对非导电样品进行 SEM 观察时。

  • 产品型号:G20
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-07-01
  • 访  问  量:72
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详细介绍

日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层 G20 特点介绍


该台式溅射设备非常适合在样品表面涂覆抗静电涂层,例如对非导电样品进行 SEM 观察时。

精致、紧凑的设计和

带触摸屏的简单用户界面

确保舒适的操作性。

无需惰性气体

一键执行从吸尘到涂层的所有操作

将条件保存到库(最多 10 个)

最多可同时处理 7 个样品

减少低电流对样品的损坏

Au、Ag、Pt成型(最大50mmφ)

一套主体+泵+1个目标

即可立即使用


日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层 G20 规格参数


外形尺寸350×210mm(高230mm) 

体重10公斤 

电源110V±10%,50/60Hz 

离子电流1~10mA(1mA/步) 

溅射时间1 至 600 秒(1 秒/步)*约15nm成型,10mA,100秒 

靶材金、银、铂(50mmφ/99.99%) 

腔室尺寸140mmφ(H100mm) 

兼容的样本量50mmφ(H30mm) 


该台式溅射设备非常适合在样品表面涂覆抗静电涂层,例如对非导电样品进行 SEM 观察时。

精致、紧凑的设计和

带触摸屏的简单用户界面

确保舒适的操作性。

无需惰性气体

一键执行从吸尘到涂层的所有操作

将条件保存到库(最多 10 个)

最多可同时处理 7 个样品

减少低电流对样品的损坏

Au、Ag、Pt成型(最大50mmφ)

一套主体+泵+1个目标

即可立即使用


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