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日本shinkuu实验室自动涂布机磁控溅射装置

日本shinkuu实验室自动涂布机磁控溅射装置
只需按下按钮即可自动进行涂层处理，无需复杂操作，适合实验室和研发用途。
成本效益高：采用小型靶材（直径32毫米），降低了运行成本。标准配置的金靶材和可选的银靶材均具有较高的性价比。

  • 产品型号：MSP-mini
  • 厂商性质：经销商
  • 更新时间：2025-10-22
  • 访  问  量：37
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详细介绍

日本shinkuu实验室自动涂布机磁控溅射装置
日本shinkuu实验室自动涂布机磁控溅射装置

特点

  • 操作简便：只需按下按钮即可自动进行涂层处理，无需复杂操作，适合实验室和研发用途。
  • 成本效益高：采用小型靶材（直径32毫米），降低了运行成本。标准配置的金靶材和可选的银靶材均具有较高的性价比。
  • 小型化设计：装置体积小巧，便于放置和使用，适合空间有限的实验室环境。
  • 多功能性：附带的金靶材适用于低倍率观察用桌面扫描电子显微镜（SEM）的导电前处理，而可选的银靶材则适用于透明材料表面的光学显微镜观察，满足多种实验需求。
  • 高真空性能：配备旋转泵，能够达到较高的真空度，确保溅射过程的稳定性和涂层质量。

用途

  • 导电涂层制备：在非导电样品表面沉积一层导电材料（如金），使其能够用于扫描电子显微镜（SEM）等需要导电样品的分析仪器。
  • 光学薄膜制备：利用银靶材等制备具有优良光学性能的薄膜，用于透明材料表面的光学显微镜观察或其他光学应用。
  • 材料研究：用于制备各种薄膜材料，研究薄膜的物理、化学和光学性质，探索新材料的性能和应用前景。
  • 纳米技术应用：在纳米材料的制备和研究中，通过溅射技术沉积纳米尺度的薄膜，用于制造纳米器件或研究纳米结构的特性。
  • 表面改性：对材料表面进行改性，提高其耐磨性、耐腐蚀性或改善其表面性能，以满足特定的应用需求。



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