日本P.R.A.半导体静电卡盘用高压ESC电源

日本P.R.A.半导体静电卡盘用高压ESC电源
日本P.R.A.半导体静电卡盘用高压ESC电源

1. 在晶圆静电吸附领域，双极 ESC 电源已成主流，其核心补偿思路如下：

• 正、负电极对晶圆施加的电压，与等离子体点燃后在晶圆表面产生的 DC self-bias，会在吸合力上造成不平衡。
• 为此，在 ESC 电源的中心抽头（CT）注入一路“偏置抵消电压"，把上述 DC bias 抵消，实现整面均匀吸附。

2. ESC 是什么？半导体硅片或 LCD 玻璃基板在真空腔室内必须被“无夹持"固定。传统机械爪易划伤、局部应力大；真空吸盘又无法在真空中工作。于是利用静电力：在陶瓷盘内部埋设一对电极，通高压后形成“库仑吸盘"，即静电卡盘（ESC）。该方法已广泛用于 PVD、CVD、ETCH 等制程。
3. 工作原理（图 1）电极附近出现反极性电荷，陶瓷表面则感应出同极性电荷。当硅片靠近时，片内诱导电荷与表面电荷相互吸引，产生吸附力。吸力大小与表面电荷量成正比，而电荷量由高压电源精确控制。
4. P.R.A. 自制 ESC 电源

半导体前制程专用静电卡盘高压电源

• 输出电压：±1 kV ～ ±5 kV（连续可调）
• 输出电流：1 ～ 10 mA
• 极性：单极 / 双极可选
• 中心抽头（Bias）：Floating / FG / Bias 三种模式
• 控制方式：本地旋钮 + 外部模拟信号 + 远程数字指令（I/O、RS-232C 等）
• 符合 RoHS

1. 可直接替换现有电源，保持原接口与安装孔位（Plug-in 兼容）。
2. 内置过流限制、极性反接保护、电弧放电抑制，显著提升工艺良率。
3. 支持单口（1-Port）、J-R 型、多通道阵列等各种 ESC 接口。