日本tosetz独立式纯水药液脱气系统气泡去除

日本tosetz独立式纯水药液脱气系统气泡去除

日本tosetz独立式纯水药液脱气系统气泡去除

一、产品核心定位

二、核心产品系列与规格

1. 独立式（Stand-Alone type）

• 型号：LV-SCW25S（纯⽔专用）、LV-SCC10S（薬液专用）；

• 核心参数：纯⽔推荐流量 25L/min，薬液推荐流量 10L/min；内置真空泵，无需额外配置；尺寸为 450 (W)×320 (D)×1465 (H) mm；

• 拓展选项：可加装过滤过滤器、溶存氧计、送液泵等配件，支持大流量、高温适配等定制需求。

2. 紧凑型（Compact type）

• 型号：LV-SCW5K（纯⽔专用）、LV-SCC5K（薬液专用）；

• 核心参数：纯⽔与薬液推荐流量均为 5L/min；真空泵为可选配置，灵活性更高；尺寸仅 180 (W)×135 (D)×306 (H) mm，节省安装空间；

• 适用场景：适合空间受限、中小流量的脱气需求，安装与移动更便捷。

三、核心技术与产品优势

1. 高效脱气原理：采用减压 + 气液分离复合方式，通过降低液体环境压力，促使溶解在液体中的气体快速析出，再通过气液分离结构将气体排出，脱气效率高，可实现 “一次通过即达标" 的处理效果，无需反复循环。

2. 多场景适配性：同时支持纯⽔与各类薬液（如镀金液、磁性材料镀液、胺系光刻胶剥离液等）的脱气处理，且耐化学腐蚀性强，适配不同行业的液体特性。

3. 安装与使用便捷：作为给液管线的附加设备，可直接集成至现有生产流程，无需大规模改造生产线；独立式内置真空泵，紧凑型可选配，满足不同用户的配置需求。

4. 功能多元化：除核心脱气、脱泡外，还能实现氧化防止、药液延寿、检测精度提升等衍生价值，一台设备解决多重生产痛点。

四、跨行业核心应用场景

1. 半导体・电子零部件行业

• 减少气泡缺陷：在去胶（デスミア）、无电解 / 电解电镀工序中，去除深孔、沟槽及疏水基材表面的气泡，避免气泡阻碍液体接触导致的产品缺陷；

• 提升清洗效果：超音波清洗时，去除清洗水中的溶解气体，提升超声波辅助清洗效率，减少液体中颗粒物，优化清洗质量；

• 防止材料腐蚀：在 CMP、电镀、光刻胶剥离等工序中，用脱气水为金属等易腐蚀材料提供表面给水或水中保管，还能应对异种金属界面的电偶腐蚀；

• 延长药液寿命：去除药液中的溶解氧气，防止药液因氧化变质，延长镀金液、光刻胶剥离液等的使用周期。

2. 食品・医疗・美容行业

• 消除检测误差：去除超声波内镜、显微镜、高灵敏度相机流体可视化及液体颗粒计数器中的气泡，避免气泡导致的误检测与信号噪音；

• 处理高粘度液体：高效去除明胶、胶原蛋白等高价粘度液体中的气泡，保障产品均匀性；

• 防止氧化变质：在饮料容器清洗工序中，用脱气水替代普通清洗水，减少容器内残留氧气，延长食品（如 craft beer）的保质期。