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日本 ACTIVE 6 英寸晶圆旋转涂覆机

日本 ACTIVE 6 英寸晶圆旋转涂覆机日本 ACTIVE ACT‑300AⅡ‑HS 高速旋涂机,转速 12000rpm,支持 Φ150mm(6 英寸)基板。搭载 10 步骤 100 组程序存储,配备安全联锁保护,真空吸附固定基板。可完成各类溶液离心成膜,广泛用于半导体、光学、纳米材料、生物等科研实验与小批量生产。

  • 产品型号:ACT‑300AⅡ‑HS
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-09-01
  • 访  问  量:16
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详细介绍

日本 ACTIVE 6 英寸晶圆旋转涂覆机 日本 ACTIVE 6 英寸晶圆旋转涂覆机

1、产品性能

ACT‑300AⅡ‑HS 是台式高精度高速旋涂机,伺服电机驱动,负载转速精度 ±2rpm 以内,转速 12000rpm,2.5 秒内可升至转速,转速可平滑调节。

设备内置 10 步骤、100 模式程序存储,可保存多套旋涂工艺配方。整机 SUS304 不锈钢材质,可选特氟龙涂层,耐化学溶剂腐蚀。

具备多重安全联锁:安全盖磁力传感器联锁、基板真空吸附压力联锁,开盖自动停机;安全盖带滴液滑盖,旋转状态下可滴加药液。真空负压‑70~‑80kPa 牢牢吸附基板,保障高速旋转时基板稳定。

2、型号说明

型号:ACT‑300AⅡ‑HS

ACT:ACTIVE 旋涂机系列代号

300:杯体内径 Φ300mm

AⅡ:第二代台式主机

HS:High‑Speed 高速版本, 12000rpm,适配 Φ150mm(6 英寸)基板。

3、核心参数表

表格

项目规格参数

兼容基板尺寸Φ5~Φ150mm( 6 英寸)

杯体内径Φ300mm

外形尺寸W400×D570×H410mm

电源单相 100V‑10A,伺服电机 400W,50/60Hz

转速 / 精度0‑12000rpm,负载下 ±2rpm 以内

升速时间12000rpm/2.5 秒以内

基板吸附压力-70~‑80kPa,真空泵排气量 12L/min 以上

程序能力10 步骤,100 模式,程序存储标配

显示液晶显示屏,显示配方号、转速、时间、吸附压力

控制方式单片机数字键盘输入设置

主机外壳SUS304,可选特氟龙涂层

杯体材质SUS304 电解抛光,可选特氟龙涂层

安全盖透明 PVC,带滑盖滴液孔

整机重量约 35kg

4、可选配件

1. 样品台夹具:POM、PCTFE、PTFE、PEEK、铝材质,可按基板定制;

2. 干式隔膜真空泵 12S;

3. 安全盖电磁锁;

4. 杯体 / 内杯特氟龙涂层;

5. 中心对准夹具;

6. 多种滴注单元:注射器加压、加压罐、微量注射器、电动移液滴加模块;

7. 外部设备通信接口(按需定制)。

5、用途 & 适用行业

利用高速旋转产生离心力,将涂覆液在基板表面均匀摊开,形成均匀薄膜。

适用行业:半导体、太阳能电池、光学镜片、液晶显示、纳米材料、生物技术、医疗材料,用于薄膜涂层实验研发、小批量试样生产。

6、使用说明

1. 接通 100V 电源,连接真空泵,确认真空管路连接完好;

2. 放置基板,开启真空吸附,确认负压达到‑70~‑80kPa,基板被牢牢吸住;

3. 通过数字键盘调用或者编辑旋涂程序,设置每段步骤转速、时间;

4. 关闭安全盖,设备确认吸附与盖体联锁到位后,启动旋涂程序;

5. 可通过安全盖上滑盖滴入涂覆药液,设备按程序完成各段旋转工艺;

6. 程序结束,设备停止旋转,解除真空,取出样品;

7. 杯体及时清理溶剂残留,腐蚀性药液建议选配特氟龙涂层腔体。


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