日本 NGK 半导体氮化铝 AlN 陶瓷晶圆加热台NGK 氮化铝 AlN 陶瓷加热器专为半导体晶圆制程打造，适配 200/300/450mm 晶圆，最高使用温度 800℃，具备优异温度均一性，600℃工况温差可控制在 ±0.1% 以内。内置 RF 电极可实现晶圆静电吸附，耐卤素腐蚀，广泛用于 CVD、ALD 等薄膜沉积设备。

日本 Ryowa 凌和电子 流动式微波加热装置日本 Ryowa 凌和 MR-2G-100 半导体式微波加热装置，搭载谐振腔与频率跟踪技术，1~100W 连续功率可调，控温室温 + 10℃~500℃。适配液 / 气 / 固相连续流反应，升温速率最高 100℃/s，温度波动≤2℃，体积小巧可放置通风橱，多用于催化、有机合成实验。

日本ekusa超纯水 酸碱溶液 药液PFA加热器 这是一款采用卧式圆筒形容器设计的在线加热器，适用于半导体和电子制造中的药液加热应用。

日本ekusa氟树脂制浸入式槽内高纯度加热器 这是一款采用模块化翅片设计的浸入式或流通式加热器，适用于需要高效热交换的高纯度液体加热场景。

日本ekusa无污染光刻胶剥离液药液加热器 所有与液体接触部件均采用PFA（全氟烷氧基树脂） 无杂质溶出：确保药液纯度不受污染 低温加热器设计：不会导致药液劣化 耐碱性：对碱性药液也具有优异的耐腐蚀性，不会劣化

日本ekusa半导体药液清洗机专用在线加热器 ECN型药液加热器 是一款专为半导体药液清洗装置设计的在线加热设备。采用全PFA材质接液部，确保药液在加热过程中保持高纯度，同时具有优异的可靠性和维护性。

ekusa低温耐压PFA材质无污染超纯水加热器 专为半导体、电子等制造业设计的超纯水加热设备。采用氟树脂（PFA）作为接液部材料，确保超纯水在加热过程中保持高纯度，无杂质溶出。

日本ekusa氟树脂制 半导体超纯水在线加热器 EHS型超纯水加热在线加热器 是一款专为半导体、电子等制造业设计的超纯水加热设备。采用氟树脂（PFA）作为接液部材料，确保超纯水在加热过程中保持高纯度，无杂质溶出。