MTI 桌面式加热辊压机电池电极压延机MSK-HRP-04 为 MTI 桌面加热辊压机，配备双独立温控，最高 200℃，辊隙 0~1.2mm 可调，可在氩气保护下作业。滚筒采用淬火钢镀铬材质，有效辊宽 200mm，用于柔性电池薄电极与软材料压延。标配机械百分表，支持选配卷对卷系统与数显千分尺，具备 CE 认证，适用于实验室材料制备。

日本 MSA FACTORY 实验室大型加热平台FACTORY PH20000 系列是米级大面积桌面型热板，采用薄型节能铝合金板面，最高温度可达 150℃，支持耐荷重型选型。搭配 PCC 系列温控器实现高精度控温，具备过温保护。适用于玻璃基板、隔热材料传热评估、大尺寸工件热处理。

日本 AS ONE 浸入式管状加热器JUST LYMAC103 水用浸入式管状加热器，功率 300W，加热本体长度 160mm，专为水体加热设计。加热部件采用镀镍铜材质，液体环境热效率优异，搭配 SUS304 不锈钢挂钩便于容器固定。配备 2 米长电源引线，适用于实验室各类容器水体加温，不可用于油类、腐蚀性及可燃性液体。

日本 阿尔法泰克 Hot N2 热氮气加热器αTECH Hot N2 热氮气加热器，为管道内氮气提供快速洁净加热处理，可搭配 Heat Boy 协同工作。能够有效抑制配管内壁沉积物附着，主体为不锈钢加热腔体搭配数显控制主机，适配半导体、液晶制造气体管路工况，保障供气稳定洁净，适配工艺管路集成安装。

日本 NGK 半导体氮化铝 AlN 陶瓷晶圆加热台NGK 氮化铝 AlN 陶瓷加热器专为半导体晶圆制程打造，适配 200/300/450mm 晶圆，最高使用温度 800℃，具备优异温度均一性，600℃工况温差可控制在 ±0.1% 以内。内置 RF 电极可实现晶圆静电吸附，耐卤素腐蚀，广泛用于 CVD、ALD 等薄膜沉积设备。

日本 Ryowa 凌和电子 流动式微波加热装置日本 Ryowa 凌和 MR-2G-100 半导体式微波加热装置，搭载谐振腔与频率跟踪技术，1~100W 连续功率可调，控温室温 + 10℃~500℃。适配液 / 气 / 固相连续流反应，升温速率最高 100℃/s，温度波动≤2℃，体积小巧可放置通风橱，多用于催化、有机合成实验。

日本ekusa超纯水 酸碱溶液 药液PFA加热器 这是一款采用卧式圆筒形容器设计的在线加热器，适用于半导体和电子制造中的药液加热应用。

日本ekusa氟树脂制浸入式槽内高纯度加热器 这是一款采用模块化翅片设计的浸入式或流通式加热器，适用于需要高效热交换的高纯度液体加热场景。