日本 SEIWA GIKEN 实验室粉体分散研磨机日本 SEIWA GIKEN RM‑05 摇滚磨为实验室粉体混合设备，采用左右摇摆 + 上下往复复合运动，可直接使用市面 PP 瓶、玻璃瓶作为处理容器。支持变频调速、数字定时，配置安全互锁防护罩，转速 700rpm，装载总重 3kg 以内，适用于粉体混合、分散、浆料制备、机械化学处理等实验场景。

日本 IMT 桌上型双盘金相样品研磨机配两路给水龙头与背部排水软管。转速 0~400rpm 可调，适配多种规格研磨圆盘，广泛用于金相试样研磨制备。

日本 IMT 桌上双模式自动试样研磨机日本 IMT KIRIME250 桌上样品研磨机，支持整体载荷、单独载荷两种研磨模式，最多可同时放置 6 个样品。搭载研磨盘水冷系统，可外接研磨剂自动滴注装置，支持多组工艺配方存储调用，运行稳定。适用于半导体、新材料、金属金相实验室样品精密研磨制备。

日本 IMT 半导体桌上型自动样品研磨机IMT KIRIME 300 桌上样品研磨机，支持整体荷重、单独荷重双模式研磨，研磨盘自带冷却功能。配备伺服电机，转速、压力精准可调，可存储多组工艺配方，支持连接研磨剂自动滴加装置。适配 SiC、半导体材料试样制备，广泛用于半导体、新材料实验室样品前处理。

日本 IMT 半导体桌上样品自动研磨机IMT Q-roy NS 桌上样品研磨机，搭载独立 Z 轴研磨量管控，可对 3 个样品单独设定研磨深度，最小 1μm 精度设置。支持研磨量自动停止、定时双模式研磨，配备触控操作系统。紧凑型台式结构，适用于金相、半导体材料试样精密研磨制备。

日本 IMT 桌上型自动金相样品研磨机IMT Rana-3 桌上型自动样品研磨机，独立加压设计，可搭载 1~6 个样品。磨盘与样品支架均可正反转，规避研磨面倾斜缺陷。支持多阶段研磨程序，可存储 16 组工艺参数，适配 SiC、半导体晶片等样品研磨，广泛用于半导体、材料实验室试样前处理。

日本 IMT 半导体桌上样品研磨机IMT Rana-5 桌上样品研磨机，台式多工位自动研磨设备，支持样品与磨盘同向 / 反向旋转，保障工件平行度。压力、转速可分段程序控制，可记忆 16 组研磨配方，适配 SiC 等脆性材料试样制备，广泛用于半导体、材料实验室样品前处理，可选配 Q-Keeper 研削治具拓展加工能力。

日本 IMT 桌上全自动金相样品研磨机日本 IMT Rana-30 全荷重台式自动研磨机，搭载 750W 伺服 + 120W 无刷双电机，最高压力 400N，可装配 φ305mm 研磨圆盘。支持 16 组研磨程序存储、三段式 ABC 工艺设置，配备 W 型双手启动安全结构，自带自动滴液润滑，广泛用于半导体、材料、金相实验室样品研磨制备。