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日本mikasa半导体薄膜制造小型旋转涂布机

日本mikasa半导体薄膜制造小型旋转涂布机
MS-B100 以小巧桌面体积、宽速域高精度旋转和可编程多段工艺，成为实验室制备均匀纳米-微米级薄膜的常用入门级机型。

  • 产品型号：MS-B100
  • 厂商性质：经销商
  • 更新时间：2026-01-05
  • 访  问  量：21
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详细介绍

日本mikasa半导体薄膜制造小型旋转涂布机

日本mikasa半导体薄膜制造小型旋转涂布机

日本 Mikasa MS-B100 是一款专为实验室设计的台式旋转涂布机（Spin Coater），主要用于半导体、光学、MEMS、材料研究等领域的光刻胶、聚合物、溶胶-凝胶等薄膜制备。核心信息如下：
  1. 基板能力
    • 4 英寸晶圆或 75 mm × 75 mm 方片
    • 旋转腔体内径 φ220 mm
  2. 旋转性能
    • 转速 20–8 000 rpm（部分资料写 50–7 500 rpm，以 20–8 000 rpm 的新版规格为准）
    • 设定/显示精度 ±1 rpm（带载时仍保持）
    • 可任意设定“达到目标转速的加速时间"与“保持时间"，用于精确控制膜厚
  3. 电机与控制
    • 无刷 AC 伺服电机——低发热、无粉尘，适合洁净间
    • 100 段 × 10 组程序，可编多步速率和时间曲线，实现自动重复实验
  4. 真空吸附
    • 数字式真空计标准配置，吸附压力 -0.08 ~ -0.1 MPa
    • 带真空联锁保护：真空不足或盖子未闭合时禁止旋转
  5. 机身规格
    • 外形 259 mm × 246 mm × 330 mm，重量约 10 kg
    • 电源 AC 100–240 V，50/60 Hz，5 A
    • 透明亚克力盖子（可选）方便观察，可防止溶剂挥发外溢

MS-B100 以小巧桌面体积、宽速域高精度旋转和可编程多段工艺，成为实验室制备均匀纳米-微米级薄膜的常用入门级机型。

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