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日本jeol全自动硅片级平滑截面加工抛光仪

日本jeol全自动硅片级平滑截面加工抛光仪
截面抛光仪™ (CP) 是为电子显微镜观察制备截面试样的设备。
通过离子束加工试样截面，相比需要经验的研磨等其他方法，能够在短时间内获得无个体差异的高质量截面。
IB-19540CP/IB-19550CCP通过全新GUI和IoT化，使操作和状态确认更加便捷；通过高吞吐量离子源和高吞吐量冷却系统，能够在短时间内制备平滑的截面。

产品型号：IB-19540CP
厂商性质：经销商
更新时间：2026-01-19
访问量：34

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详细介绍

日本jeol全自动硅片级平滑截面加工抛光仪

IoT截面抛光仪™诞生

IB-19540CP 截面抛光仪™ / IB-19550CCP 冷却截面抛光仪™

截面抛光仪™ (CP) 是为电子显微镜观察制备截面试样的设备。

通过离子束加工试样截面，相比需要经验的研磨等其他方法，能够在短时间内获得无个体差异的高质量截面。

IB-19540CP/IB-19550CCP通过全新GUI和IoT化，使操作和状态确认更加便捷；通过高吞吐量离子源和高吞吐量冷却系统，能够在短时间内制备平滑的截面。

主要特点

1. 全新GUI与IoT化 - 追求易用性的操作界面和远程控制

直观操作：采用新GUI，操作步骤更加清晰易懂
流程化设置：可按照流程图设定加工条件
预设功能：可保存和调用适合不同试样的加工条件
网络连接：通过网络连接，可通过Web浏览器访问CP
远程管理：可在远离设备的地方确认和操作多台设备的加工状态

2. 高吞吐量离子源 - 标准加工速率1,200 μm/h以上

性能提升：通过优化离子源电极和提高加速电压，配备离子电流密度更高的高吞吐量离子源
标准配置：这是设备的标准配置，非选配
加工效率：在10 keV离子能量、1小时加工条件下，使用硅晶圆试样可达到优异效果

3. 高吞吐量冷却系统 - 冷却和恢复常温的自动化

全自动流程：从冷却到恢复常温的全过程可自动完成
智能冷却管理：

可在-120°C下进行8小时加工
通过插入/拔出冷却导体控制冷却温度，抑制液氮消耗
加入液氮状态下可直接进行试样交换

真空排气功能：可从设备侧对液氮罐周围进行真空排气，维持冷却保持时间和试样冷却温度

产品优势

技术突破

IoT集成：业界支持IoT的截面抛光设备
智能化操作：通过Web界面实现远程监控和操作
高效加工：标准加工速率达1,200 μm/h以上
节能冷却：智能冷却系统显著降低液氮消耗

用户体验

操作简化：新GUI大幅降低操作门槛
远程管理：支持多设备集中管理
条件标准化：预设功能确保加工一致性
时间效率：快速冷却和加工缩短整体制备时间

应用领域

材料科学：金属、陶瓷、复合材料等截面制备
半导体工业：芯片、器件截面分析
生物样品：生物组织、细胞等软材料截面
纳米技术：纳米材料结构表征
失效分析：产品缺陷和失效机理研究

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日本jeol全自动硅片级平滑截面加工抛光仪

主要特点

1. 全新GUI与IoT化 - 追求易用性的操作界面和远程控制

2. 高吞吐量离子源 - 标准加工速率1,200 μm/h以上

3. 高吞吐量冷却系统 - 冷却和恢复常温的自动化

产品优势

技术突破

用户体验

应用领域

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