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日本nanotech-inc实验室二次元结晶堆叠装置 核心利用基板温度调控带来的有机树脂粘接力变化，支持滴降堆叠（石墨烯、二硫化钼、六方晶氮化硼等二维结晶在硅基板上依次堆叠）和拾取堆叠（硅基板上的二维结晶在有机树脂上依次堆叠）两种方式，可助力异质结复合原子堆叠材料研发，这类材料能实现超导、发光、磁传感等特殊特性
2026-03-10
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56
日本Tokai Senkou混合药液浓度连续测定装置 采用电磁式密度计，实现溶液的电导率的连续测量。没有时间差。 测量低浓度NaOH浓度的理想选择。测量浓度范围为0-105g/L的NaOH浓度
2026-03-05
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日本Tokai Senkou自动药液浓度连续控制仪 针对工业生产线中混合药液浓度波动大、需频繁监测的需求，将传统间歇式滴定分析升级为连续化、自动化流程，兼具实时监测与自动调控功能，适配多行业的药液浓度管控场景
2026-03-05
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55
Tokai Senkou连续滴定式药液浓度控制装置 该设备专为工业生产线设计，实现药液浓度的连续监测与自动控制，解决传统手工滴定效率低、无法实时管控的痛点
2026-03-05
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44
日本sakigake台式表面处理真空等离子体装置 可用于各类表面处理，包括薄膜 / 阳极接合 / 涂装前的预处理，也适用于镀膜、电镀、粘接密着提升，同时可拓展至生物医疗领域的培养、牙科医疗及清洗、杀菌、实验研究等场景。
2026-03-04
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69
日本full-tech薄膜沉积超小型实验用CVD装置 CVD（化学气相沉积）是一种薄膜制备技术，通过将气态前驱物引入加热的基板表面，使其发生化学反应并沉积形成固态薄膜。
2026-02-09
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106
Tateyama半导体芯片制造晶圆真空搬运装置 在外气·微粒子隔断的状态下，从搬运容器（Minimal Shuttle）取出晶圆，并可向真空装置内搬入/搬出晶圆
2026-02-02
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121
日本tateyama塑料压电基板等离子刻蚀装置 除塑料制微流控芯片加工外，还适用于塑料材料、压电材料、难加工性材料的高深宽比微细加工等各种MEMS器件的试制。
2026-02-02
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104
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