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full-tech粉末烧结用立式管状坩埚型气氛炉 垂直方向加热，适合特定工艺需求，温度波动控制在±1℃以内，支持多段程序升温/保温/降温
产品型号：FT-POT300-VAC-SP厂商性质：经销商更新时间：2026-02-09访 问 量：10
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full-tech粉末烧结用立式管状坩埚型气氛炉
full-tech粉末烧结用立式管状坩埚型气氛炉
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 型号 | FT-POT300-VAC-SP |
| 温度 | 1,200℃ |
| 常用温度范围 | 室温～1,150℃ |
| 内容积 | Φ200×250H mm |
| 温度波动率 | ±1℃以内 |
| 温度控制 | 程序控制器：10组×10段（可选配16×16段） |
| 电源容量 | AC200V 50/60Hz 3.5kW |
| 特性 | 说明 |
|---|---|
| 立式结构 | 垂直方向加热，适合特定工艺需求 |
| 坩埚型设计 | 可容纳较大容积的样品（Φ200×250mm） |
| 高温度精度 | 温度波动控制在±1℃以内 |
| 程序控温 | 支持多段程序升温/保温/降温 |
| 真空/气氛兼容 | 可选配真空系统和气体导入系统 |
| 应用 | 具体说明 |
|---|---|
| 粉末烧结 | 金属粉末、陶瓷粉末在高温下的致密化 |
| 退火处理 | 消除材料内部应力，改善晶体结构 |
| 淬火/回火 | 金属材料的硬化和韧性调整 |
| 实验类型 | 用途 |
|---|---|
| CVD（化学气相沉积） | 在基板上沉积薄膜 |
| PVD（物理气相沉积） | 蒸发镀膜 |
| 热解反应 | 有机物的高温分解 |
| 晶体生长 | 单晶、多晶材料的培养 |
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