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日本full-tech薄膜沉积超小型实验用CVD装置 CVD（化学气相沉积）是一种薄膜制备技术，通过将气态前驱物引入加热的基板表面，使其发生化学反应并沉积形成固态薄膜。
产品型号：FT-1200CVD厂商性质：经销商更新时间：2026-02-09访 问 量：10
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日本full-tech薄膜沉积超小型实验用CVD装置
日本full-tech薄膜沉积超小型实验用CVD装置
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 型号 | FT-1200CVD |
| 温度 | 1,200℃ |
| 常用温度范围 | 室温～1,100℃ |
| 使用炉芯管 | 外径34mm × 800mm 高纯度石英管 |
| 均热区长度 | 150mm |
| 温度设定精度 | ±1℃以内 |
| 加热元件 | Kanthal AF（铁铬铝合金，耐高温抗氧化） |
| 加热驱动 | 数字晶闸管（相位角控制） |
| 薄膜类型 | 应用示例 |
|---|---|
| 碳纳米管（CNT） | 复合材料增强、导电材料 |
| 石墨烯 | 电子器件、传感器 |
| 氮化硅（Si₃N₄） | 半导体钝化层、耐磨涂层 |
| 氧化硅（SiO₂） | 绝缘层、光学涂层 |
| 金属薄膜（钨、钛等） | 集成电路互连、阻挡层 |
| 特点 | 优势 |
|---|---|
| 超小型设计 | 适合实验室桌面使用，节省空间 |
| 高纯度石英管 | 防止污染，保证薄膜纯度 |
| 150mm均热区 | 确保基板温度均匀，薄膜质量一致 |
| ±1℃精度 | 精确控制反应温度，提高工艺重复性 |
| 模块化选配件 | 根据实验需求灵活配置 |
| 用户类型 | 应用场景 |
|---|---|
| 大学研究室 | 新材料开发、纳米技术研究 |
| 半导体企业研发 | 工艺验证、新器件开发 |
| 材料科学研究所 | 薄膜材料性能研究 |
| 初创企业 | 小批量样品制备、技术验证 |
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