日本 松定 静电吸盘专用双通道高压电源

日本 松定 静电吸盘专用双通道高压电源 日本 松定 静电吸盘专用双通道高压电源

产品概述

松定 HECD 系列为半导体静电吸盘（E-Chuck）专门开发的 2 通道输出高压电源，采用放大器架构，摒弃机械继电器切换极性，兼顾高速响应与长久使用寿命，适配库仑力型静电吸盘，实现晶圆稳定吸附与平滑释放。

产品性能特点

半机架紧凑型机身设计，节省设备安装空间；

双路输出支持中心抽头模式 / 双路独立控制（可选配），满足不同吸附释放工艺；

支持极性平滑反转，降低晶圆崩片风险，提升设备产能；

内置晶圆感应功能，实时监测晶圆吸附状态，保障吸附 / 释放工序可靠运行；

内置 13.56MHz RF 低通滤波器，适配等离子体工艺环境；

标配 LAN、USB、RS232 数字通讯，可选 EtherCAT 工业总线；

可拓展微小电流监测、中点偏置、长线输出电缆等选配功能。

规格型号参数

全系型号均为双通道正负对称输出：

HECD-0.5B20×2：±0.5kV，20mA，响应时间 10ms

HECD-1B10×2：±1kV，10mA，响应时间 10ms

HECD-1.5B6×2：±1.5kV，6mA，响应时间 15ms

HECD-2B5×2：±2kV，5mA，响应时间 20ms

HECD-4B1×2：±4kV，1mA，响应时间 40ms

HECD-4B2.5×2：±4kV，2.5mA，响应时间 40ms

HECD-5B2×2：±5kV，2mA，响应时间 60ms

HECD-7.5B1.2×2：±7.5kV，1.2mA，响应时间 90ms

应用行业与用途

适用行业：半导体制造、平板显示面板行业

应用工艺：干法刻蚀、等离子刻蚀 RIE、CVD、PECVD、光刻工艺、晶圆真空搬运；

核心负载：半导体设备静电吸盘 E-Chuck，用于真空腔体内晶圆夹持固定。