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日本 IMT 平面自动精密研磨抛光机

日本 IMT 平面自动精密研磨抛光机日本 IMT Rana-3-30 自动研磨抛光机,可在保障工件平行度的前提下完成试样研磨。支持多阶段压力、转速编程,可记忆 16 组研磨配方;样品夹持器与磨盘可同向 / 反向旋转,单台最多可同时放置 6 个样品,广泛用于材料、半导体、金相试样前处理。

  • 产品型号:Rana-5
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-09-23
  • 访  问  量:34
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详细介绍

日本 IMT 平面自动精密研磨抛光机 日本 IMT 平面自动精密研磨抛光机

1、产品型号

IMT Rana-3-30 自动研磨抛光机(日本 IMT)

2、产品性能

本机核心优势是不损失工件平行度,夹持器与磨盘可同转速同方向旋转,磨盘支持正反转。搭载自动升降加压系统,压力可分段线性调节;支持 ABC 三阶段研磨工艺设置,可存储 16 套研磨程序,防水触控面板搭配急停按钮,自带自动供水功能,适配脆性材料、精密试样粗磨与精磨。

3、参数表

表格

项目规格参数
电源单相 100V / 单相 220V
外形尺寸宽 450× 深 640(含背面)× 高 520mm,头部升起 610mm
整机重量94kg
研磨圆盘Φ250mm(AL 琢磨圆盘、磁性表面圆盘,圆盘单独销售)
磁盘转速50~400 转 / 分钟,支持正反转切换
研磨电机400W 齿轮电机(100/200V)
样品夹持转速50~200 转 / 分钟,正反转切换
样品旋转电机120W 无刷电机
可放样品数量1~6 个自由选择,Φ50mm 样品最多 3 个
样品夹具规格Φ25mm、30mm、40mm×6 个;Φ50mm×3 个,夹具单独销售
单样品加压力10~50N,每个样品独立加压
气源要求0.5~0.7Mpa,超过 0.7MPa 需另配减压阀
供水排水标配自动供水,附带给排水软管,带流量调节润滑器
操作面板防水触控屏,数字定时器,急停按钮,16 组工艺存储

4、产品用途

适用于金相分析、半导体材料、陶瓷、金属、硬质材料试样的粗研磨、精研磨、抛光前制样。科研院校实验室、材料检测机构、半导体企业、零部件质检实验室,用于制备高平行度样品,观察材料断面、金相组织。

5、使用说明

  1. 设备就位,连接电源、压缩空气、给排水管路,检查气源压力 0.5~0.7MPa。

  2. 选择适配研磨圆盘与样品夹具,将待测试样固定在样品架上,装入样品旋转头。

  3. 触控面板新建 / 调用存储研磨配方,设置各阶段转速、压力、研磨时长。

  4. 启动设备,磨盘与样品夹持器同步运转,自动加压开始研磨;可分段执行低压预磨、高压精磨。

  5. 程序结束,设备自动抬升样品头,关闭供水,取下试样;清洁磨盘与设备,关闭气源电源。

  6. 紧急情况直接按下急停按钮,设备立刻停机。

6、适用行业

材料科学实验室、半导体行业、汽车零部件检测、高校科研院所、第三方检测机构、陶瓷与硬质合金研发。

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