日本 HORIBA 堀场 蚀刻终点在线监测光谱仪HORIBA EV-140C 为半导体等离子工艺专用 OES 终点监测仪，采用像差校正凹面光栅与背照式 CCD 探测器，波长 200~800nm。搭载自研 Rapture Intensity 算法，可捕捉微弱光谱变化，适配小开口蚀刻工况；配套 Sigma-P 制程软件，用于干法刻蚀、等离子清洗、薄膜沉积实时终点侦测与腔体健康监控。

日本 HORIBA 半导体等离子工艺监测光谱仪HORIBA EV2.0 是面向半导体制程的高性能 OES 光谱仪，用于干法刻蚀、等离子清洗、PECVD 工艺实时终点检测与腔室健康诊断。提供 LR/STD/HR 三种分辨率机型，搭载 Sigma_P 配方软件，支持最多 6 个处理腔室，支持光纤接入腔体，通过 LAN 实现设备通讯集成。

日本somaopt在线监测液体小型拉曼光谱仪 采用 VPH 衍射光栅高效分光系统，配合 –60 °C 电子冷却二维 CCD，实现高灵敏度检测。支持电池供电，可连接 HPLC 等流通池，对微量液体样品进行在线监测；并可通过化学计量学软件「SpectraChem」实时显示成分结果。

日本SEKONIC便携式彩色光谱仪分光比色计 SEKONIC/日本世光 C-800 光谱仪 C-800配备了四种新的量化 感觉的显色指数：SSI、TLCI、TM-30-18和CRI 。 兼容各种流派的光色评价。这是一款支持数码摄影的高性能色度计，并配备光谱传感器， 可以精确测量 LED 和荧光灯等光源，而这些光源是传统 RGB 滤光片传感器方法难以使用的。

日本shimadzu激光光谱分析仪多色仪快速测量 SHIMADZU/岛津 SPG-V500 波长从 185 nm 到 1095 nm “高波长分辨率”和“瞬时光谱测量” 除了缩短测量激光波长所需的时间外，通过可视化纵模的行为（例如跳模），还可以加快激光光源和激光模块的开发并降低制造成本。

日本bunkoukeiki棱镜前光谱仪多色仪高效率 PF-200 具有高效率和低杂散光的前置光谱仪，用于紫外拉曼光谱和 SFG 光谱等测量。 通过使用棱镜代替滤光片，一台设备可以使用多个波长。 它的优点是能够测量滤光片无法处理的紫外线区域，并且能够以比购买多个滤光片更低的成本构建系统。

日本bunkoukeiki光谱仪高精度测量单色仪 M25 光学装置采用我们的改良车尔尼-特纳安装座，可最大限度地减少多重衍射造成的杂散光。 由于光学系统的像差很少，因此可以在每个波长上获得高度对称的光谱。 由于衍射光栅更换方便且更换重现性好（±0.1mm以内），因此可作为宽带光谱仪（单色仪）使用。（200nm 至 25μm） 由于可以进行氮气吹扫，因此也可以在红外区域使用。

日本bunkoukeiki单色仪高性能高亮度光谱仪 M10 小型、轻量、明亮、高分辨率的单色仪，焦距为 100mm。 ① 过滤器手动切换支架（手动滑动式，最多可安装6个过滤器） ②入射狭缝千分尺（狭缝显示，最小刻度10μm，宽度0～4mm可变） ③V型孔径（最小刻度1mm，入口狭缝高度可在1～20mm范围内变化） ④波长计数器刻度盘 ⑤光谱仪顶盖 ⑥ 输出狭缝千分尺（狭缝显示，最小刻度