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产品分类日本techvision光掩膜清洗装置用于半导体等 TWC-302 光掩模的清洁化是提高产品成品率的必要条件!
2025-05-06
经销商
825
日本techvision盒式清洗装置用于晶片盒等 TCC-803 TCC-803盒式清洗装置”型号是以高附加价值产品的制造工艺中使用的晶片盒、载体、盒等的精密清洗为清洗装置。这是一种适用于小批量多品种生产的紧凑型设备。
2025-05-06
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659
日本taiseikogyo细泡喷射清洗机高度耐用 FJW系列 类型细泡喷射清洗机 目的这是清洁零件的洗衣机。
2025-05-06
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757
日本filgen去除有机污染物UV臭氧清洗仪进口 UV253MINI UV253MINI是一种通过UV(紫外线)和臭氧的协同作用去除有机污染物的UV臭氧净化器。 通过有机溶剂清洗或超声波清洗等,可除去湿式清洗无法除去的有机污染物质。 UV灯具有两个短波长,即184.9nm产生臭氧效果高,253.7nm促进臭氧活化。
2025-05-06
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685
日本Filgen紫外臭氧有机溶剂超声波清洗仪 UV253V8/UV253V8R ●单独使用超声波清洗无法去除的基材上的有机污染物可以轻松去除。 ●湿法清洗中使用的有机溶剂也被去除。 ●可以在不损坏基材表面的情况下去除有机污染物。 ●LB膜的堆积变得容易。(累计率将大幅提升。) ●一种可在常压下使用且不需要真空装置的干洗设备。
2025-05-06
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660
Xevios多用途清洗装置高压脉冲喷射清除异物 兼容晶圆、石英、玻璃、蓝宝石、SiC等多种材质。 结合高压间歇喷射、二流体喷射、各种刷子、超声波、化学溶液等,可应对从粗加工到各种清洗工艺。抛光后清洗至精密清洗。
2025-05-06
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760
日本kokusai-electric单频专用超声波清洗机 UO600PB/UO600PB-Y系列 通过提前选择振荡模式(单频或扫频),客户可以进行适合清洁情况的单功能清洁。
2025-05-06
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788
日本ribteras紫外线臭氧清洗仪高照射效率 UVS2001N/UVS2003N 用于研发的高性能UV臭氧清洗设备,可处理最大200mm见方的基材 从研发到样品制作、量产都能应对 的UV臭氧清洗设备。
2025-05-06
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570