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  • KSM-1601日本春日电机 KASUGA 静电电位监视设备

    日本春日电机 KASUGA 静电电位监视设备日本春日电机 KSM-1601 是多通道静电电位监视装置,支持最多 16 通道实时测量,配备全彩触摸屏,可设置两级报警并输出信号,搭配专用传感器可在防爆区域使用,适用于薄膜输送、宽幅对象带电分布评估等场景。

    更新时间

    2026-05-06

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  • PHF-2K-P春日电机 等离子体发生用脉冲高压电源设备

    春日电机 等离子体发生用脉冲高压电源设备日本春日电机 PHF-2K-P 是等离子体发生用脉冲型高频高压电源,输出电压范围 0~±15kV,支持连续与间歇调制模式,振荡频率 1kHz~30kHz 可调,无需匹配盒即可驱动多种负载,适用于大气压及真空等离子体发生场景。

    更新时间

    2026-05-06

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  • ND-503T日本春日电机 KASUGA 喷嘴型离子发生仪器

    日本春日电机 KASUGA 喷嘴型离子发生仪器日本春日电机 ND-503T 是喷嘴型离子发生器,采用 DC 电晕放电方式,搭载 D.I.C.Ⅱ 电路控制,可实现稳定离子平衡与高速除电,维护频率低,适用于洁净环境、高速输送部件及光学部件等场景的静电消除与防尘。

    更新时间

    2026-05-06

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  • EMIS-111Q日本ARIOS  小型微波激发离子源设备

    日本ARIOS 小型微波激发离子源设备日本 ARIOS EMIS-111Q 是石英放电管型小型微波激发离子源,采用紧凑型设计,可产生大电流离子束,支持全空冷运行,可搭配 2kV 离子加速电源,适用于离子束处理、薄膜制备等实验室工艺场景。

    更新时间

    2026-05-06

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  • 溅射装置日本ARIOS 2英寸实验室小型磁控溅射设备

    日本ARIOS 2英寸实验室小型磁控溅射设备日本 ARIOS 2 英寸小型磁控溅射装置,集成磁控管阴极与基板加热机构,采用 JIS 机架紧凑型设计,适配 DC/RF 电源,支持基板加热与升降调节,可用于实验室薄膜沉积工艺,节省空间且易于操作。

    更新时间

    2026-05-06

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  • SMPS-201日本ARIOS 超小型微波激发等离子体源设备

    日本ARIOS 超小型微波激发等离子体源设备日本 ARIOS SMPS-201 是超小型微波激发等离子体源,专为气体 / 排气管线中途安装设计,无电极放电可实现高密度等离子体,可用于腔室清洁、气体活化、废气分解等场景,适配多种活性气体,空冷式设计无需冷却水。

    更新时间

    2026-05-06

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  • RP-151 / RP-301 / RP-502日本ARIOS 固态型高性能射频电源设备

    日本ARIOS 固态型高性能射频电源设备日本 ARIOS RP 系列是固态型 13.56MHz 高性能射频电源,含 150W/300W/500W/1kW 四档型号,可搭配自动匹配盒,专为 RF 溅射、等离子体 CVD 等场景设计,支持实验室到全自动控制等离子体源的多种用途。

    更新时间

    2026-05-06

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  • M-1500C(VRCMC-15)日本DAIHEN 便携式空气等离子切割设备

    日本DAIHEN 便携式空气等离子切割设备日本 DAIHEN M-1500C 是逆变控制式空气等离子切割机,可直接使用家用 100V 插座,内置压缩机无需外接气源,搭配 10 米长焊枪,12kg 轻量化设计,适合出差施工或无气源现场的切割作业。

    更新时间

    2026-05-06

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