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日本shuwaind秀和晶圆精密抛光钻石研磨液

日本shuwaind秀和晶圆精密抛光钻石研磨液
Shuwa Industrial 的钻石抛光液（Diamond Polishing Liquid）主要用于半导体晶圆的精密抛光工艺，适用于硅（Si）、碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等材料，能够实现镜面级抛光效果，表面粗糙度 Ra ≤ 0.01 µm 。

产品型号：
厂商性质：经销商
更新时间：2026-01-07
访问量：13

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详细介绍

日本shuwaind秀和晶圆精密抛光钻石研磨液

Shuwa Industrial 的钻石抛光液（Diamond Polishing Liquid）主要用于半导体晶圆的精密抛光工艺，适用于硅（Si）、碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等材料，能够实现镜面级抛光效果，表面粗糙度 Ra ≤ 0.01 µm 。

该产品通常与抛光垫（Polishing Pad）配合使用，通过化学机械抛光（CMP）工艺去除晶圆表面的氧化层、介质层（ILD）和金属层（如Cu、W），确保表面平整度和低缺陷率，从而提高芯片的良品率和性能。

此外，Shuwa Industrial 的钻石抛光液支持多种纳米级粒径选择，适用于不同材料和工艺需求，特别是在第三代半导体材料（如SiC和GaN）的超精密加工中表现好

Render金刚石研磨液长期以来一直用于陶瓷和超硬金属的高精度、高效率研磨加工。我们可根据客户的需求，定制生产原创的研磨剂・金刚石研磨液。

■ 特点
展现原创性
我们可根据客户的各种需求，定制生产原创的金刚石研磨液。欢迎随时咨询。
值得信赖的稳定性
通过将严选出的金刚石以独特方式与研磨液混合，提高了分散效果，使供给到研磨盘上的金刚石量始终保持稳定。
优异的润滑性
润滑性能出色，可实现令人满意的镜面精度。

■ 可从丰富类型中选择
通过类型、粒度等级、金刚石种类、集中度四种组合，为您定制原创研磨液。请从A～D中各选一种。

A. 类型

IRIS（水溶型）
适用于各类化合物半导体晶圆，分散性优异，可实现低损伤镜面加工。
SP-1107（水溶型）
在陶瓷、GaN、SiC 等方面拥有丰富实绩，兼顾面精度与研磨速率的研磨液。
TE-0531（油溶型）
新型油剂，分散性更佳。
以上为典型代表，此外还备有20多种型号供不同用途选择。

B. 粒度等级

C. 金刚石种类

单晶
多晶

D. 集中度

常规（Regular）
高浓度（Strong）
超高浓度（Super Strong）

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