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日本techvision半导体晶圆紫外线臭氧清洗机

日本techvision半导体晶圆紫外线臭氧清洗机
UV-208 是一款紫外线臭氧清洗装置,通过照射特定波长的紫外线产生臭氧(O₃),利用生成的臭氧氧化分解有机化合物,从而去除工件表面的有机物污染并进行表面改性。

  • 产品型号:UV-208
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-02-07
  • 访  问  量:10
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详细介绍

日本techvision半导体晶圆紫外线臭氧清洗机

日本techvision半导体晶圆紫外线臭氧清洗机

UV-208 是一款紫外线臭氧清洗装置,通过照射特定波长的紫外线产生臭氧(O₃),利用生成的臭氧氧化分解有机化合物,从而去除工件表面的有机物污染并进行表面改性。

技术原理

核心光源技术

  • 采用高密度网格形状低压汞灯作为UV光源
  • 网格状设计确保工件全区域均匀照射

清洗效果

  • 表面去污:去除疏水性污染物
  • 表面改性:将表面从疏水性转变为亲水性(水滴扩散展开)
  • 附着力提升:润湿性改善可提高后续工艺的密着性
效果验证(通过接触角θ变化确认):
  • 清洗前:水滴呈球状,接触角大(疏水)
  • 清洗后:水滴扩散展开,接触角小(亲水)

产品规格

项目参数
照射区域206mm × 206mm
电源AC 100V 5A 50/60Hz(可定制其他电压)
装置尺寸385mm(宽)× 480mm(深)× 270mm(高)
重量28kg

主要特点

序号特点
1采用高密度UV网格灯
2照射均匀,覆盖整个工件表面
3省空间,紧凑型设计
4公用工程简单(水电气需求少)
5支持双面清洗单面清洗
6操作简便,内置安全功能

维度核心要点
产品定位半导体/精密制造领域的表面清洗与改性设备
技术核心高密度网格低压汞灯 + 紫外线臭氧协同作用
核心优势照射均匀、省空间、操作简便、双面兼容
主要效果去除有机污染 + 亲水性改性 + 提升附着力
适用场景晶圆、玻璃基板、精密零件等表面处理
规格亮点206×206mm照射区、28kg轻量化、桌面式设计


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