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产品分类
日本MIKASA晶圆表面涂抹设备半导体用涂布机 MS-B200 / MS-B300 产品采用AC伺服电机且无刷，因此在防止洁净室污染方面具有出色的性能，并且减少电机的发热以防止连续使用时的温度升高。膜厚再现性也较低。
2025-05-07
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1354
日本MIKASA小型高性能旋涂机涂布机洁净室用 MS-B100 / MS-B150 产品采用AC伺服电机且无刷，因此在防止洁净室污染方面具有出色的性能，并且减少电机的发热以防止连续使用时的温度升高。膜厚再现性也较低。
2025-05-07
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1424
日本Hisol等离子清洗机去除有机污染物等 G1000 G1000是一种利用 气体等离子体的蚀刻作用， 在低压环境下对被清洗物体表面进行清洗的系统。通过根据用途选择所使用的气体， 不仅可以可靠地去除有机污染物，还可以可靠地去除无机污染物。
2025-05-07
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817
日本Hisol离子溅射设备表面涂覆抗静电涂层 G20 该台式溅射设备非常适合在样品表面涂覆抗静电涂层，例如对非导电样品进行 SEM 观察时。
2025-05-07
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930
kelk凯尔克电子冷却除湿器环境污染分析装置 DH-209C-1-R 电子冷却除湿器对于去除环境污染气体分析仪样气采样部分或保持恒定量的水分至关重要。
2025-05-07
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972
凯尔克kelk化学溶液恒温循环器控制器半导体 RX-610-R 湿法工艺的直接循环化学恒温装置，具有在线冷却和加热装置，不会造成金属离子洗脱和污染。
2025-05-07
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1695
日本Junkosha脱气模组高性能分析高纯度流体 MBS-C-1000$n$n在分析化学领域，对提高准确性的需求不断增加。$n使用复杂的分析设备分析高纯度流体需要使用高性能的脱气模块除去溶解的气体。$n这是一种高性能且紧凑的脱气模块。
2025-05-09
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1227
Adwill-Global全自动多功能晶圆贴合研磨机 RAD-2510F/12Sa 适用于超薄晶圆 本多功能晶圆贴合机采用单机系统，适用于超薄晶圆制造。背面研磨工艺完成后，晶圆的紫外线照射、校准、贴合到切割环、研磨用表面保护胶带撕膜均可以由1台设备完成。
2025-05-07
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3811
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