日本ICC UCR-150N-S极低温反应机 30分钟直达-80℃精密控温

一台设备，解决低温实验的两难

在有机合成与制药研发中，低温往往直接决定产物的立体选择性与收率。温度偏差几度，就可能改变反应路径，甚至让活性中间体分解殆尽。长期以来，实验室要获得-78℃乃至更低的反应环境，的手段是干冰/丙酮浴、干冰/甲醇浴或液氮。它们确实有效，却也带来两个难以回避的问题：低温环境不够稳定，以及维持低温要持续投入人力与耗材。

日本 ICC 株式会社创造化学研究所推出的 UCR-150N-S 极低温反应机（又称 UC 反应器），正是为了同时解决这两难而设计的紧凑型冷却装置。它不依赖干冰、不使用冷媒，通过一台斯特林冷冻机，把-100℃到+50℃的宽幅温度区间，稳定地交到实验者手中。对需要重复做、反复调条件的低温反应来说，这等于把“稳定"两个字，写进了每一次实验的默认选项里。

关键参数一览

先看一组核心参数：温度调节范围 -100℃～+50℃；温度调节精度 ±0.2℃；温度控制方式为 P.I.D. 控制；温度传感器采用 K 型热电偶；冷冻机为斯特林冷冻机（氦气密封型）；使用环境温度 0℃～40℃；外形尺寸 W190×D360×H320mm（仅本体）；重量约 16kg；电源为 300VA、AC100V、50/60Hz。

从这组参数可以看出，UCR-150N-S 并不是简单地把温度“降到很低"，而是追求“降得准、控得稳"。±0.2℃ 的温度精度，意味着在-100℃到+50℃之间的任意设定点，机器都能把温度牢牢锁在目标附近。P.I.D. 控制结合 K 型热电偶反馈，让温度的响应与维持都保持在一个可预期、可复现的水平上，这是许多实验者最看重的部分。

30分钟直达-80℃

UCR-150N-S 最直观的效率优势，是从室温到达-80℃仅需约 30 分钟（采用 300mL 液槽型铝块时）。过去用干冰浴，需要先等干冰到货、再现场配浴，准备工作漫长且被动；而 UCR 通电后即可快速进入低温状态，实验者能够把注意力放在反应本身，而不是设备准备上。

更重要的是，它还能把低温“长期保持"下去。对于需要过夜运行的冷却阱、需要长时间维持稳定低温的反应，UCR-150N-S 支持连续运转，大大提升了实验的灵活性与可重复性。电源接通之后，低温条件就是“随取随用"的资源，而不是需要掐着时间、盯着耗材库存去安排的事情。

斯特林冷冻机：无氟、无冷媒、低功耗

UCR-150N-S 的制冷核心是一台氦气密封循环的斯特林冷冻机，这里有两个特点值得关注。

其一，无氟无冷媒。机器不依赖氟利昂类制冷剂，也不需要用干冰、液氮作外接冷媒；制冷剂在氦气密封容器内循环，环境友好，也减少了耗材采购与安全管理负担。对追求“无氟实验室"或担心冷媒管理麻烦的单位而言，这一特性尤其契合。

其二，低功耗。设备最大功耗约 200W，稳态约 100W，比传统大型冷却装置低得多。对常年运行的实验室而言，这笔电费是实打实的成本下降。此外，斯特林冷冻机结构相对简洁、免维护特性突出，日常使用几乎不需要专业保养，把“维护"两个字从实验节奏里省了出来。

特制铝块：适应多种容器与反应形态

UCR-150N-S 的冷却端采用特制铝合金块承接反应容器，可根据实验需求选择液槽浴型、Schlenk 管型、烧瓶型、试管型、样品瓶型等多种形态，也可按用户的容器尺寸定制。液槽浴型是的方式，通过在槽内加入冷媒（如甲醇），配合搅拌子搅动，可承接形状各异的反应容器；若出于安全对策、研究方针或特殊环境考虑，也可以采用不使用冷媒的直接冷却铝块。

冷却速度与容器尺寸密切相关，参考数据如下：300mL 容器约 1 小时可达-100℃；500mL 约 1 小时可达-80℃、约 1 小时 50 分可达-100℃；1000mL 约 1 小时 10 分可达-60℃、约 2 小时可达-80℃；2000mL 约 2 小时可达-40℃、约 3 小时 20 分可达-60℃。若预先用干冰或液氮对冷媒预冷，冷却时间还可以进一步缩短。

常见问题：温度控制与使用要点

关于温度控制，几个常见问题值得说明。其一，温度在哪个部位管理？标准温度传感器位于铝块安装附近，以该处温度进行控制；液槽浴情况下，浴内冷媒温度与本体冷却部分会有差异，建议放入搅拌子充分搅拌以减少温度不均。其二，能否以反应容器内实际液温为控制目标？可以，使用特氟龙被覆的外部温度传感器即可。其三，反应放热能否跟随？温和放热反应通常可充分跟随冷却；剧烈放热反应，则建议在反应瞬间向浴内适量加入干冰或液氮辅助。

主要使用场景

UCR-150N-S 可广泛应用于：有机化学合成与反应、有机金属领域的合成与反应、不稳定反应种的研究、光反应时热要素的去除、以及冷却阱的过夜运行等。凭借 200W 以下的低功耗，它也能很好地承接“长期低温保持"类任务，是实验室极低温方案中兼顾性能、成本与占地的一台理想设备。

对追求稳定、可复现低温条件的有机化学、有机金属合成与制药研发实验室而言，UCR-150N-S 提供了一条比干冰浴更高效、更可控、更省心的路径：30 分钟到-80℃、±0.2℃ 精密控温、无氟低功耗、支持定制。它让“随时获得稳定极低温"从理想变成日常。